1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサンの製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：牧野逸郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-127202
公開番号（公開出願番号）：特開2012-162573
特許番号：特許第5705168号
出願日： 2012年06月04日
公開日（公表日）： 2012年08月30日
請求項（抜粋）：

【請求項1】フェノールと3,3,5-トリメチルシクロヘキサノンを酸触媒の存在下に反応させて、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサンを製造する方法において、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサンのフェノールアダクト結晶と含水フェノールよりなるスラリー中で酸触媒の存在下にフェノールと3,3,5-トリメチルシクロヘキサノンとの反応を開始させ、引続き、反応をスラリー中で行わせることを特徴とする1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサンの製造方法。

IPC (3件)：