特許

J-GLOBAL ID：201503019692312658

塗布処理装置、清掃処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体

発明者： 金盛 治人 ,  齋藤 幸正 ,  後藤 聡 ,  楊 栄 ,  岩橋 崇
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (4件)： 金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  萩原 康司 ,  扇田 尚紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-092815
公開番号（公開出願番号）：特開2015-208727
出願日： 2014年04月28日
公開日（公表日）： 2015年11月24日
要約：

【課題】ノズルの清掃処理において、清掃対象物の掻き取りムラを生じさせない。【解決手段】基板に塗布液を吐出する吐出口が下面に形成された、基板の幅方向に延伸するノズルと、ノズルの下面及び前記下面に隣接する隣接面に当接可能な形状を有し、ノズルの清掃を行うパッド50と、パッド50とノズルとをノズルの長手方向に沿って相対的に移動させるパッド移動機構と、ノズルとパッド50とを相対的に上下方向移動させる相対移動機構とを備えた、塗布処理装置は、パッド50を、シリンダ内部に流体を流入させることで動作するアクチュエータでノズルに対して押圧する押圧機構51を有する。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

基板に塗布液を吐出する吐出口が下面に形成された、前記基板の幅方向に延伸するノズルと、前記ノズルの下面及び前記下面に隣接する隣接面に当接可能な形状を有し、前記ノズルの清掃を行うパッドと、前記パッドと前記ノズルとを前記ノズルの長手方向に沿って相対的に移動させるパッド移動機構と、前記ノズルと前記パッドとを相対的に上下方向移動させる相対移動機構とを備えた、基板に塗布液を塗布する塗布処理装置であって、 前記パッドを、シリンダ内部に流体を流入させることで動作するアクチュエータで前記ノズルに対して押圧する押圧機構を有することを特徴とする、塗布処理装置。

IPC (5件)：

B05C 11/10 ,  H01L 21/027 ,  B05C 5/02 ,  B05D 1/26 ,  B05D 3/12

FI (5件)：

B05C11/10 ,  H01L21/30 564Z ,  B05C5/02 ,  B05D1/26 Z ,  B05D3/12 Z

Fターム (21件)：

4D075AC02 ,  4D075AC88 ,  4D075BB65Z ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AB01 ,  4F041BA60 ,  4F041CA02 ,  4F041CA28 ,  4F042AA02 ,  4F042AA06 ,  4F042AA10 ,  4F042CC02 ,  4F042CC08 ,  4F042CC11 ,  4F042DH10 ,  5F146JA02 ,  5F146JA27

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 凹凸基材への塗液の塗布装置および方法並びにプラズマディスプレイの製造装置および方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-060450   出願人：東レ株式会社
• 液体吐出装置及び画像形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-285105   出願人：富士写真フイルム株式会社