特許
J-GLOBAL ID：201503021459068300
ガス処理装置
出願人/特許権者：
JFEエンジニアリング株式会社
JFEエンジニアリング株式会社 について
代理人 (3件)： 高矢 諭 , 松山 圭佑 , 牧野 剛博
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-082782
公開番号（公開出願番号）：特開2013-212436
特許番号：特許第5821751号
出願日： 2012年03月30日
公開日（公表日）： 2013年10月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 内部に供給された窒素酸化物を含有する被処理ガスに電子ビームを照射すると共に、該被処理ガスをアルカリ溶液に接触させて脱硝する筒状の照射・吸収反応容器を備えたガス処理装置において、
前記照射・吸収反応容器の上端に取り付けられた、該照射・吸収反応容器の軸方向に沿って下方に電子ビームが通過する天部と、
供給された前記被処理ガスを、前記照射・吸収反応容器内を中心軸に沿って上方に、ガス供給口から噴流状に供給して対流させるための、前記照射・吸収反応容器内の前記ガス供給口より下方に配設された中間隔壁と、
対流されて流動する前記被処理ガスを接触反応させるアルカリ溶液を、前記照射・吸収反応容器の側壁内面に沿って流下させる溶液供給手段と、
を備えていることを特徴とするガス処理装置。
IPC (2件)：
FI (5件)：
引用特許：
Copyright (c) 2009 Japan Science and Technology Agency. All Rights Reserved