スポット走査システムのための改善された高速対数光検出器

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人YKI国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-547519
公開番号（公開出願番号）：特表2015-507180
出願日： 2012年12月14日
公開日（公表日）： 2015年03月05日
要約：

分析対象を検査または測定するための装置および方法を開示する。各走査部分から出る出力ビームプロフィルが光電子増倍管(PMT)によって連続的に収集されるように、入射ビームが分析対象の複数の連続的な走査部分にわたって導かれる。走査部分は、一つ以上の第一の走査部分と、一つ以上の第一の走査部分の後に走査される次の走査部分とを含む。入射ビームが分析対象の一つ以上の第一の走査部分に導かれた後または導かれる間に、第一の走査部分のそれぞれについてPMTにより収集された出力ビームプロフィルに基づき、各第一の走査部分における出力信号が得られる。一つ以上の第一の走査部分のそれぞれについて得られた出力信号に基づき、次の走査部分における予期される出力ビームプロフィルが決定される。入射ビームが次の走査部分の方に導かれると、予期された出力ビームプロフィルに基づき、次の走査部分についてPMTに入力されるゲインが設定される。そのような次の走査部分におけるゲインの設定により、PMTにおける測定信号が、PMTまたはPMTから出る測定信号を受信する他のハードウェア部品の既定の仕様に入るようになる。

請求項（抜粋）：

分析対象を検査または測定するための方法であって、一つ以上の第一の走査部分と、前記一つ以上の第一の走査部分の後に走査される次の走査部分と一つ以上の第一の走査部分と、を含む各走査部分から出た出力ビームプロフィルが光電子増倍管(PMT)によって連続的に収集されるように、分析対象の複数の連続的な前記走査部分にわたって入射ビームを導くこと、前記入射ビームが前記分析対象の前記一つ以上の第一の走査部分に導かれた後または導かれる間に、第一の走査部分のそれぞれについて前記PMTにより収集された前記出力ビームプロフィルに基づき、各第一の走査部分における出力信号を取得すること、一つ以上の第一の走査部分のそれぞれについて得られた前記出力信号に基づき、前記次の走査部分における予期される出力ビームプロフィルを決定すること、前記入射ビームが前記次の走査部分の方に導かれたときに、そのような次の走査部分におけるゲインの設定により、前記PMTにおける測定信号が、前記PMTまたは前記PMTから出る測定信号を受信する他のハードウェア部品の既定の仕様に入るように、前記予期された出力ビームプロフィルに基づき、前記次の走査部分について前記PMTに入力される前記ゲインを設定すること、を含む、方法。

IPC (2件)：

G01N 21/88 , G01N 21/956

FI (2件)：

G01N21/88 J , G01N21/956 A

Fターム (27件)：

2F065AA49 , 2F065BB03 , 2F065CC19 , 2F065GG04 , 2F065JJ01 , 2F065JJ08 , 2F065JJ17 , 2F065JJ24 , 2F065LL14 , 2F065LL35 , 2F065LL57 , 2F065PP12 , 2G051AA51 , 2G051AB02 , 2G051BA10 , 2G051BC06 , 2G051CA02 , 2G051CA08 , 2G051CB01 , 2G051CB05 , 2G051CD01 , 2G051DA07 , 2G051EA04 , 2G051EA11 , 2G051EA12 , 2G051EA24 , 2G051EA27

引用特許：

審査官引用 (4件)

欠陥検査方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-013472 出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
異常を発見するために試料を光学的に検査する装置および方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-572074 出願人：ケーエルエー-テンカーテクノロジィースコーポレイション
フォトマスクの欠陥検査方法、フォトマスクの欠陥検査装置及び記録媒体
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-038215 出願人：株式会社東芝, 大日本印刷株式会社

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