特許
J-GLOBAL ID：200903078509756788

フォトマスクの欠陥検査方法、フォトマスクの欠陥検査装置及び記録媒体

発明者：
山口 真司

山口 真司 について

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伊藤 正光

伊藤 正光 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について

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大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 竹村 壽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-038215
公開番号（公開出願番号）：特開2002-244275
出願日： 2001年02月15日
公開日（公表日）： 2002年08月30日
要約：
【要約】【課題】 検査感度調整の際にマスク欠陥がデバイスの動作への影響が大きな領域と小さな領域とに分離して検査を行うことにより時間的、コスト的に有利な必要十分な欠陥検査ができる欠陥検査方法を提供する。【解決手段】 フォトマスク10上の欠陥がデバイスの動作に与える影響に応じて、フォトマスク上の検査領域(例えば、領域A及び領域B)を2つ以上の領域に分割し、この分割した各々の検査領域に対して検査感度設定を行う。フォトマスク10の各パターンA、Bに応じて所望の検査感度で欠陥検査をすることにより必要十分な欠陥検査が可能になる。また、複数の検査領域を有するフォトマスクの所定のパターンに対する欠陥検査感度と欠陥検査位置とを定義した欠陥検査データを用意しこのデータに基づいてフォトマスク検査を行う。
請求項（抜粋）：
フォトマスクのパターンデータを2つ以上の検査領域に分割するステップと、前記分割された検査領域のそれぞれに対応した検査感度の設定を行うステップと、前記各検査領域毎にそれぞれに対応した前記検査感度を指定し、この検査感度に基づいて前記検査領域を順次検査するステップとを備えたことを特徴とするフォトマスクの欠陥検査方法。
IPC (2件)：
G03F 1/08 ,  G01N 21/956
FI (2件)：
G03F 1/08 S ,  G01N 21/956 A
Fターム (11件)：
2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051EA08 ,  2G051EA11 ,  2G051EA24 ,  2G051EB09 ,  2G051ED01 ,  2H095BA01 ,  2H095BD04 ,  2H095BD28
引用特許：
審査官引用 (5件)
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