特許
J-GLOBAL ID：201503032689445740
偏光板の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
渡辺 望稔
, 三和 晴子
, 伊東 秀明
, 三橋 史生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-184138
公開番号（公開出願番号）：特開2015-111245
出願日： 2014年09月10日
公開日（公表日）： 2015年06月18日
要約：
【課題】本発明は、偏光子を薄膜化した場合であっても、染色処理に起因する基材層の染色を抑制し、透過率の低下を抑制することができる偏光板の製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】本発明の偏光板の製造方法は、偏光子を有する偏光板を作製する偏光板の製造方法であって、低透湿層、基材層および親水性高分子層がこの順で積層された積層体に対して染色処理を施し、親水性高分子層に二色性物質を吸着させることにより、親水性高分子層を偏光子として機能させる偏光子形成工程を有する、偏光板の製造方法である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
偏光子を有する偏光板を作製する偏光板の製造方法であって、
低透湿層、基材層および親水性高分子層がこの順で積層された積層体に対して染色処理を施し、前記親水性高分子層に二色性物質を吸着させることにより、前記親水性高分子層を前記偏光子として機能させる偏光子形成工程を有する、偏光板の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (10件)：
2H149AA02
, 2H149AB04
, 2H149AB23
, 2H149BA02
, 2H149BB07
, 2H149BB17
, 2H149BB20
, 2H149FA03W
, 2H149FD18
, 2H149FD47
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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