特許
J-GLOBAL ID：201503034529435864
リソグラフィ装置用の所望のデバイスパターンのベクタ形式表現を変換する装置および方法、プログラマブルパターニングデバイスにデータを供給する装置および方法、リソグラフィ装置、デバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森下 賢樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-542769
公開番号（公開出願番号）：特表2015-513208
出願日： 2012年11月13日
公開日（公表日）： 2015年04月30日
要約：
【解決手段】露光装置用の所望のデバイスパターンのベクタ形式表現を変換する方法、リソグラフィ装置または露光装置、プログラマブルパターニングデバイスにデータを供給する装置および方法、デバイス製造方法。一実施形態では、変換方法は、所望のデバイスパターンに対応する所望の放射ドースパターンのラスタ化表現を出力する。ベクタ形式表現は、一つまたは複数のプリミティブパターンを特定するプリミティブデータと、所望のデバイスパターンの少なくとも一部が、それぞれ特定されたプリミティブパターンの一つまたは複数のインスタンスから形成される方法を特定するインスタンスデータと、を含む。変換方法は、プリミティブデータ内で特定される各プリミティブパターンのラスタ化プリミティブを形成し、そのラスタ化プリミティブに対応するインスタンスデータに関連する各ラスタ化プリミティブを記憶することによって、ラスタ化表現を形成することを含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
露光装置のプログラマブルパターニングデバイスにデータを提供する装置であって、
複数のデータユニットを受信するように構成されたバッファメモリであって、各データユニットは、所望のドースパターンの異なる部分に形成されるべきパターンを表し、前記露光装置による基板のパターン形成中に前記プログラマブルパターニングデバイスに制御信号を提供する必要があるとき前記データユニットを出力するように構成された、バッファメモリと、
前記バッファメモリとの間の前記データユニットの送受信を制御するように構成されたフローコントローラであって、各データユニットは、完全な所望のドースパターンを露光するために必要な時間よりも短い期間だけ前記バッファメモリ内に記憶される、フローコントローラと、
を備える装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 519
, H01L21/30 529
, G03F7/20 505
2H097AA03
, 2H097AB07
, 2H097BB01
, 2H097CA17
, 2H097GB04
, 2H097LA10
, 2H097LA12
, 5F146BA07
, 5F146CA03
, 5F146CA06
, 5F146DA01
, 5F146DA41
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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