ホウ素含有水の処理方法及び装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：重野剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-151701
公開番号（公開出願番号）：特開2015-020131
出願日： 2013年07月22日
公開日（公表日）： 2015年02月02日
要約：

【課題】ホウ素含有水をROの膜劣化耐性が強いpHが酸性から中性においても、RO装置及びイオン交換装置によって効率よくホウ素除去処理することができるホウ素含有水の処理方法及び装置を提供する。【解決手段】ホウ素含有水を高圧型逆浸透膜装置に通水した後、イオン交換装置にて処理することを特徴とするホウ素含有水の処理方法。ホウ素含有水が供給される高圧型逆浸透膜装置と、該高圧型逆浸透膜装置の透過水が通水されるイオン交換装置とを備えてなるホウ素含有水の処理装置。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ホウ素含有水を高圧型逆浸透膜装置に通水した後、イオン交換装置にて処理することを特徴とするホウ素含有水の処理方法。

IPC (8件)：

B01D 61/02 , C02F 1/461 , C02F 1/52 , C02F 9/00 , B01D 61/58 , B01D 61/44 , C02F 1/42 , C02F 1/44

FI (16件)：

B01D61/02 500 , C02F1/46 101A , C02F1/52 K , C02F9/00 502J , C02F9/00 502P , C02F9/00 502M , C02F9/00 503B , C02F9/00 504A , B01D61/58 , B01D61/44 500 , B01D61/44 520 , C02F1/42 B , C02F1/42 A , C02F9/00 502F , C02F9/00 502D , C02F1/44 J

Fターム (57件)：

4D006GA03 , 4D006GA17 , 4D006KA01 , 4D006KA52 , 4D006KA53 , 4D006KA55 , 4D006KA57 , 4D006KA72 , 4D006KB11 , 4D006KB13 , 4D006KB14 , 4D006KB15 , 4D006KB17 , 4D006KE15R , 4D006MA13 , 4D006MA14 , 4D006PA01 , 4D006PB02 , 4D006PB04 , 4D006PB05 , 4D006PB70 , 4D006PC02 , 4D015BA19 , 4D015BA23 , 4D015CA20 , 4D015DA04 , 4D015DA05 , 4D015DA13 , 4D015DA16 , 4D015EA36 , 4D015FA17 , 4D015FA22 , 4D015FA25 , 4D015FA28 , 4D025AA04 , 4D025AB33 , 4D025BA09 , 4D025BA14 , 4D025BA17 , 4D025BB02 , 4D025BB03 , 4D025BB04 , 4D025BB07 , 4D025BB09 , 4D025DA01 , 4D025DA05 , 4D025DA10 , 4D061DA01 , 4D061DA02 , 4D061DC13 , 4D061EA09 , 4D061EB13 , 4D061FA03 , 4D061FA09 , 4D061FA11 , 4D061FA13 , 4D061FA14

引用特許：

審査官引用 (7件)

水処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-178826 出願人：株式会社クボタ
高塩阻止率複合逆浸透膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-206500 出願人：日東電工株式会社
超純水製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-117142 出願人：栗田工業株式会社

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