特許
J-GLOBAL ID：201503046724688490
液体処理装置及び液体処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
田中 光雄
, 鮫島 睦
, 岡部 博史
, 稲葉 和久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-186121
公開番号（公開出願番号）：特開2015-033694
出願日： 2014年09月12日
公開日（公表日）： 2015年02月19日
要約：
【課題】プラズマを効率よく発生させ、短時間で液体の処理をすることが可能な液体処理装置及び液体処理方法を提供する。【解決手段】本発明の液体処理装置は、被処理水を入れる反応槽内に少なくとも一部が配置される第1の金属電極と、前記反応槽内に配置される第2の金属電極と、前記第1の金属電極を囲むように設けられ、閉じた空間を形成する絶縁体と、前記絶縁体に前記被処理水に対して設けられた開口部であって、前記空間から前記被処理水中に気泡を発生させる、開口部と、前記気泡を発生させるのに必要な気体を前記空間に供給する気体供給装置と、前記第1の金属電極と前記第2の金属電極との間に電圧を印加する電源と、を備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被処理水内に少なくとも一部が配置される第1の金属電極と、
前記被処理水内において、前記被処理水と接触するように少なくとも一部が配置される第2の金属電極と、
前記被処理水内に位置する前記第1の金属電極の外周を、空間を介して囲むように設けられ、前記被処理水に対して設けられた開口部を備える絶縁体と、
前記空間に気体を供給する気体供給装置と、
前記第1の金属電極と前記第2の金属電極との間に電圧を印加する電源と、
を備え、
前記気体供給装置が前記空間に気体を供給することによって、前記空間から前記開口部の外側まで連続した気泡であって、前記被処理水内に位置する前記第1の金属電極の外周表面が前記被処理水に直接接触しないように前記第1の金属電極を覆う気泡を前記被処理水中に発生させ、前記気泡を発生させた状態で、前記第1の金属電極と前記第2の金属電極との間に前記電源により電圧を印加して、前記第1の金属電極と前記気泡による気液界面との間に電位差を生じさせて前記気泡内であって前記開口部の外側までプラズマを発生させる、液体処理装置。
IPC (4件)：
C02F 1/48
, F24F 6/00
, F24F 13/22
, H05H 1/24
C02F1/48 B
, F24F6/00 D
, F24F1/00 361B
, H05H1/24
