特許
J-GLOBAL ID：201503050252360018

親水化処理剤

発明者：
圖司 紘和

圖司 紘和 について

, 
藤岡 正洋

藤岡 正洋 について

, 
境原 由次

境原 由次 について


出願人/特許権者：
花王株式会社

花王株式会社 について


代理人 (2件)： 古谷 聡 ,  義経 和昌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-247535
公開番号（公開出願番号）：特開2015-105313
出願日： 2013年11月29日
公開日（公表日）： 2015年06月08日
要約：
【課題】優れた親水化能力を発揮する親水化処理剤及びそれを含有する親水化処理剤組成物を提供する。【解決手段】疎水性不飽和単量体由来の繰返し単位を含む不飽和単量体由来の重合体セグメントA-1と、スルホベタイン基を有する不飽和単量体由来の繰返し単位を含む不飽和単量体由来の重合体セグメントA-2とを有し、重合体セグメントA-1の含有量が0.05質量%以上、75質量%以下であるブロック重合体A、からなる親水化処理剤。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
疎水性不飽和単量体由来の繰返し単位を含む不飽和単量体由来の重合体セグメントA-1と、スルホベタイン基を有する不飽和単量体由来の繰返し単位を含む不飽和単量体由来の重合体セグメントA-2とを有し、重合体セグメントA-1の含有量が0.05質量%以上、75質量%以下であるブロック重合体A、からなる親水化処理剤。
IPC (3件)：
C08F 293/00 ,  C09K 3/00 ,  C09K 3/18
FI (3件)：
C08F293/00 ,  C09K3/00 112Z ,  C09K3/18
Fターム (37件)：
4H020AA06 ,  4H020AB02 ,  4H020AB07 ,  4J026HA11 ,  4J026HA28 ,  4J026HA32 ,  4J026HA39 ,  4J026HB11 ,  4J026HB28 ,  4J026HB32 ,  4J026HB39 ,  4J026HB45 ,  4J026HB50 ,  4J026HE01 ,  4J038CG00 ,  4J038CG14 ,  4J038CG17 ,  4J038CG18 ,  4J038CG21 ,  4J038CH19 ,  4J038CH26 ,  4J038CJ16 ,  4J038CQ001 ,  4J038GA08 ,  4J038GA13 ,  4J038JA35 ,  4J038JA43 ,  4J038JA59 ,  4J038JB01 ,  4J038JC13 ,  4J038KA09 ,  4J038MA08 ,  4J038MA10 ,  4J038MA14 ,  4J038NA05 ,  4J038NA06 ,  4J038PA18
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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