特許
J-GLOBAL ID:201503078182268099

硬化性組成物、ナノインプリント材料、硬化膜、積層体、硬化膜の製造方法、パターン形成方法及び半導体発光素子用基板

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 山田 強 ,  廣田 美穂 ,  日野 京子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-139749
公開番号(公開出願番号):特開2015-071741
出願日: 2014年07月07日
公開日(公表日): 2015年04月16日
要約:
【課題】基板に対する塗布性及び硬化性が良好な硬化性組成物を提供する。【解決手段】硬化性組成物は、硬化成分として2以上のエチレン性不飽和基を有する多官能不飽和化合物(A)及び2個以上のチオール基を有する多官能チオール化合物(B)を含むとともに、重量平均分子量が12,000以下であって、かつフッ素原子を実質的に有さない重合体(C)を含む。【選択図】なし
請求項(抜粋):
硬化成分として2個以上のエチレン性不飽和基を有する多官能不飽和化合物(A)及び2個以上のチオール基を有する多官能チオール化合物(B)を含むとともに、重量平均分子量が12,000以下であって、かつフッ素原子を実質的に有さない重合体(C)を含む、硬化性組成物。
IPC (5件):
C08L 101/00 ,  C08K 5/37 ,  B32B 27/30 ,  B29C 59/02 ,  H01L 21/027
FI (5件):
C08L101/00 ,  C08K5/37 ,  B32B27/30 ,  B29C59/02 Z ,  H01L21/30 502D
Fターム (29件):
4F100AK02B ,  4F100AK03B ,  4F100AK12B ,  4F100AK25B ,  4F100AK41B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F209AA44A ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN09 ,  4J002AC001 ,  4J002BB011 ,  4J002BC021 ,  4J002BG021 ,  4J002CC051 ,  4J002CE001 ,  4J002CH001 ,  4J002EH076 ,  4J002EH106 ,  4J002EV027 ,  4J002FD010 ,  4J002FD140 ,  4J002FD310 ,  5F146AA33 ,  5F146AA34
引用特許:
審査官引用 (7件)
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