特許
J-GLOBAL ID：201503079860125852

液晶材料精製装置及び液晶材料精製方法

発明者：
原 智章

原 智章 について

, 
大石 晴己

大石 晴己 について


出願人/特許権者：
DIC株式会社

DIC株式会社 について


代理人 (5件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  鈴木 三義 ,  村山 靖彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-219609
公開番号（公開出願番号）：特開2003-024704
特許番号：特許第5654189号
出願日： 2001年07月19日
公開日（公表日）： 2003年01月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】基板表面に形成され、かつスペーサーを介した電極間に液晶材料を注入できる電極セル構造を有し、更に吸着剤を電極表面に有し、当該電極間に働く印加電圧を前記電極間の距離で除した電界強度が0.02kV/cm以上100kV/cm以下となる電場の作用によって、前記電極間にある液晶材料中に存在するイオン源となりうる不純物をイオンに解離させ、生成したイオンと元々電圧印加前から存在していたイオンの両方を前記液晶材料中で電気泳動させ、これらのイオンを吸着剤によって捕集することにより、前記電極間にある液晶材料を精製する液晶材料精製装置であって、 吸着剤がシリカゲル、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、ケイ酸マグネシウム、酸化チタンの中から選ばれた一種類、又はこれら二種類以上の組み合わせからなることを特徴とする液晶材料精製装置。
IPC (5件)：
B01D 15/00 ( 200 6.01) ,  B01D 57/02 ( 200 6.01) ,  B03C 5/00 ( 200 6.01) ,  C09K 19/00 ( 200 6.01) ,  G02F 1/13 ( 200 6.01)
FI (6件)：
B01D 15/00 K ,  B01D 15/00 101 Z ,  B01D 57/02 ,  B03C 5/00 Z ,  C09K 19/00 ,  G02F 1/13 500
引用特許：
審査官引用 (19件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM