特許
J-GLOBAL ID：201503083515432057

回折環形成方法

発明者：
丸山 洋一

丸山 洋一 について


出願人/特許権者：
パルステック工業株式会社

パルステック工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-171230
公開番号（公開出願番号）：特開2015-040743
出願日： 2013年08月21日
公開日（公表日）： 2015年03月02日
要約：
【課題】 X線の断面径より小さい微小部分の残留応力を精度よく測定する。【解決手段】 測定対象物OBに対してX線を出射するX線出射器10と、中央にX線を通過させる貫通孔が形成されたテーブル16と、テーブル16に取付けられ、回折X線を受光して回折環を記録するイメージングプレート15とを備えた回折環形成装置を用いて回折環を形成する際、測定対象物OBの表面にX線の断面径より小さい幅のスリットSLを形成し、スリットSL内の測定箇所にX線が照射され、スリットSLの中心線が、X線の光軸とイメージングプレート15の回転基準位置のラインを含む平面内に略含まれ、さらにスリットSL部分の測定対象物OBの表面がこの平面と垂直になるように、測定対象物OBの位置および姿勢を調整する。この後、測定対象物OBにX線を照射し、イメージングプレート15に回折環を形成する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
測定対象物に向けてX線を出射するX線出射器と、 中央にX線を通過させる貫通孔が形成されたテーブルと、 前記テーブルに取付けられて、中央部にてX線を通過させるとともに、測定対象物にて回折したX線の回折光を受光する受光面を有し、回折光の像である回折環を記録するイメージングプレートとを備えた回折環形成装置を用いた回折環形成方法において、 測定対象物の表面に、測定対象物に照射される位置における前記X線出射器から出射されたX線の断面径より小さい幅のスリットを形成するスリット形成ステップと、 前記スリット形成ステップにより形成されたスリット内の測定箇所に、前記X線出射器から出射されるX線が照射され、前記スリットの中心線が、前記X線出射器から出射されるX線の光軸と前記イメージングプレートの回転基準位置のラインを含む平面内に略含まれ、さらに前記スリット部分の測定対象物の表面が前記平面と垂直になるよう、前記回折環形成装置に対する測定対象物の位置および姿勢を調整する位置姿勢調整ステップと、 前記X線出射器からX線を出射し、前記イメージングプレートに回折環を形成する回折環形成ステップとからなることを特徴とする回折環形成方法。
IPC (1件)：
G01N 23/20
FI (1件)：
G01N23/20
Fターム (7件)：
2G001AA01 ,  2G001BA18 ,  2G001CA01 ,  2G001GA13 ,  2G001HA13 ,  2G001KA07 ,  2G001SA07
引用特許：
審査官引用 (4件)
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