過程制御デバイスのための時刻印放射データ収集

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡島伸行
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-559962
公開番号（公開出願番号）：特表2015-515663
出願日： 2013年02月27日
公開日（公表日）： 2015年05月28日
要約：

特許請求された方法およびシステムは、過程制御デバイス監視システム、および、過程制御デバイスの1つ以上の動作状態を測定するための過程制御デバイス監視システムを備えた過程制御弁アセンブリを提供する。過程制御デバイス監視システムはまた、時刻印を、1つ以上の測定された動作状態に基づいて生成されたトリガーに応答して、過程制御デバイスの1つ以上の測定された動作状態に関連付けし得る。過程制御デバイス監視システムはまた、時刻印および1つ以上の動作状態の表示を監視デバイスに伝送し得る。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

過程制御デバイス監視システムにおける方法であって、前記過程制御デバイス監視システムにおいて、過程制御デバイスの1つ以上の動作状態を測定することと、前記過程制御デバイス監視システムにおいて、時刻印を前記過程制御デバイスの前記1つ以上の測定された動作状態と関連付けることであって、前記時刻印を前記1つ以上の動作状態と関連付けることは、前記1つ以上の測定された動作状態に基づいて生成されるトリガーに応答して、関連付けることと、前記時刻印および前記1つ以上の動作状態の表示を監視デバイスに伝送することと、を含む、方法。

IPC (2件)：

G05B 23/02 , H04L 12/28

FI (3件)：

G05B23/02 301N , H04L12/28 200M , H04L12/28 100F

Fターム (15件)：

3C223AA01 , 3C223BA03 , 3C223BB12 , 3C223CC03 , 3C223DD03 , 3C223EA06 , 3C223EB01 , 3C223EB02 , 3C223FF13 , 3C223GG03 , 5K033BA08 , 5K033CA07 , 5K033CC02 , 5K033DA01 , 5K033DB20

引用特許：

審査官引用 (11件)

プロセス制御システムにおけるイベントシーケンスの検出
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-157004 出願人：フィッシャー-ローズマウントシステムズ,インコーポレイテッド
特開昭63-167955
給水装置及び液位制御装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-269437 出願人：株式会社日立産機システム

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