特許
J-GLOBAL ID：201503087143140149
自己組織化可能な重合体及びリソグラフィにおける使用方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-551554
公開番号（公開出願番号）：特表2015-510258
出願日： 2012年12月18日
公開日（公表日）： 2015年04月02日
要約：
交互ドメインの秩序アレイを形成するように配向された自己組織化ブロック重合体層を形成する方法が開示されている。本方法は、自己組織化可能なブロック共重合体の層を基板上に提供することと、ドメインの秩序アレイを形成するために層の自己組織化を誘発する前に、第1界面活性剤を層の外表面上に堆積させることと、を含む。第1界面活性剤は、疎水性尾部及び親水性頭部基を有し、ブロック共重合体重合体を、交互ドメインを有する秩序アレイへと組織化することを促進するために、ブロック共重合体層の外表面における界面エネルギを減少させるように作用する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
基板上に自己組織化可能なブロック共重合体の秩序アレイを形成する方法であって、
自己組織化可能なブロック共重合体の層を有する基板を提供することであって、前記ブロック共重合体は親水性ブロック及び疎水性ブロックを含む分子を有し、前記層は外表面を有する、提供することと、
前記層の前記外表面上に第1界面活性剤を堆積させることであって、前記第1界面活性剤が、疎水性尾部及び親水性頭部基を有する分子を有し、前記親水性頭部基は、前記ブロック共重合体の前記親水性ブロックに前記第1界面活性剤を吸着させる、堆積させることと、
前記自己組織化可能なブロック共重合体の自己組織化を引き起こして、前記基板上の前記層から前記自己組織化可能なブロック共重合体の前記秩序アレイを形成するために前記層を処理することと、を含む、方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, B82Y40/00
