特許
J-GLOBAL ID：201503099609532482

基板処理システム及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体

発明者：
毛利 信彦

毛利 信彦 について

, 
小原 隆憲

小原 隆憲 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 内野 美洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-187301
公開番号（公開出願番号）：特開2015-056431
出願日： 2013年09月10日
公開日（公表日）： 2015年03月23日
要約：
【課題】回収カップの内周面に付着したパーティクル等が基板に再付着するのを防止すること。【解決手段】本発明では、基板(W)を処理液(66)で処理する基板処理システム(1)及び基板処理方法並びに基板処理プログラムにおいて、前記基板(W)を保持した状態で前記基板(W)に供給された処理液(66)を前記基板(W)の外周外方で回収する回収カップ(50)を、処理液(66)による処理時に保持された前記基板(W)の位置よりも下側に降下させ、前記下降された回収カップ(50)の内周面に向けて洗浄液(65)を供給して、処理液(66)による処理時に前記基板(W)を保持する位置よりも下側の位置で前記回収カップ(50)の内周面を洗浄することにした。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
基板を処理液で処理する基板処理システムにおいて、 前記基板を基板保持部で保持する基板保持機構と、 前記基板に向けて処理液を供給する処理流体供給部と、 前記処理流体供給部から供給された処理液を前記基板の外周外方で回収する回収カップと、 前記回収カップを前記基板に対して相対的に昇降させる回収カップ昇降機構と、 前記回収カップの内周面に向けて洗浄液を供給する回収カップ洗浄液供給部と、 前記基板保持機構と処理流体供給部と回収カップ昇降機構と回収カップ洗浄液供給部を制御する制御装置と、 を備え、 前記制御装置は、 前記回収カップ昇降機構によって前記回収カップを前記基板保持部の位置よりも下側に降下させ、前記回収カップ洗浄液供給部によって前記降下された回収カップの内周面に向けて洗浄液を供給させて、前記基板保持部の位置よりも下側の位置で前記回収カップの内周面を洗浄することを特徴とする基板処理システム。
IPC (1件)：
H01L 21/304
FI (1件)：
H01L21/304 643Z
Fターム (11件)：
5F157AA73 ,  5F157AB02 ,  5F157AB95 ,  5F157AC13 ,  5F157BB24 ,  5F157CC11 ,  5F157CE23 ,  5F157CE24 ,  5F157CF20 ,  5F157DB51 ,  5F157DC90
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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