特許

J-GLOBAL ID：201503099703966879

レーザ加熱装置

発明者： 千葉 貴史 ,  寺田 昌男 ,  蜂谷 真弓
出願人/特許権者： 坂口電熱株式会社
代理人 (2件)： 澤木 誠一 ,  澤木 紀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-231789
公開番号（公開出願番号）：特開2015-092526
出願日： 2013年11月08日
公開日（公表日）： 2015年05月14日
要約：

【課題】従来のレーザ加熱装置では、被加熱物の周縁部分からの熱放散があるため、被加熱物の温度分布を均一にするのは難しかった。【解決手段】本発明のレーザ加熱装置は、気密チャンバ1と、この気密チャンバ1に設けた、レーザ光を透過するレーザ光透過窓4と、上記気密チャンバ1内に設けた被加熱物支持手段3と、上記気密チャンバ1の外部から上記レーザ光透過窓4を通して、上記被加熱物支持手段3により支持した被加熱物2上にレーザ光を照射する、少なくとも2つ以上のレーザ照射手段13、15とよりなり、上記各レーザ照射手段13、15は、上記被加熱物2上に、それぞれ異なる形状のレーザ光を照射し、上記被加熱物を加熱するものであると共に、上記レーザ照射手段の少なくとも一つは、上記被加熱物の周縁部分に、リング状のレーザ光を照射し、上記被加熱物を加熱することを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

気密チャンバと、この気密チャンバに設けた、レーザ光を透過するレーザ光透過窓と、上記気密チャンバ内に設けた被加熱物支持手段と、上記気密チャンバの外部から上記レーザ光透過窓を通して、上記被加熱物支持手段により支持した被加熱物上にレーザ光を照射する、少なくとも2つ以上のレーザ照射手段とよりなり、 上記各レーザ照射手段は、上記被加熱物上に、それぞれ異なる形状のレーザ光を照射し、上記被加熱物を加熱するものであると共に、 上記レーザ照射手段の少なくとも一つは、上記被加熱物の周縁部分に、リング状のレーザ光を照射し、上記被加熱物を加熱することを特徴とするレーザ加熱装置。

IPC (6件)：

H01L 21/316 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/064 ,  B23K 26/12 ,  H01L 21/31 ,  C23C 16/46

FI (6件)：

H01L21/316 S ,  B23K26/00 N ,  B23K26/06 A ,  B23K26/12 ,  H01L21/31 E ,  C23C16/46

Fターム (26件)：

4E068AH02 ,  4E068CA02 ,  4E068CC03 ,  4E068CD02 ,  4E068CD05 ,  4E068CD08 ,  4E068CH08 ,  4E068CJ01 ,  4E068DA10 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030FA10 ,  4K030KA23 ,  4K030LA15 ,  5F045AA20 ,  5F045AB32 ,  5F045AC11 ,  5F045DP02 ,  5F045EK17 ,  5F045GB05 ,  5F058BA20 ,  5F058BC02 ,  5F058BD04 ,  5F058BF38 ,  5F058BF40 ,  5F058BF62

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平4-254518
  
• 基板加熱装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-110482   出願人：株式会社アルファ・イーコー
• レーザ加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-085767   出願人：日立ビアメカニクス株式会社