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J-GLOBAL ID:201602007292752964   整理番号:74A0365120

斜プチロルふっ石岩とNa2CO3溶液の反応による方ふっ石の合成黒鉱式鉱床周辺における方ふっ石帯の形成に関する実験的考察

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資料名:
巻: 69  号:ページ: 171-180  発行年: 1974年 
JST資料番号: F0509A  ISSN: 0021-4825  CODEN: GKKGA2  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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方ふっ石の組成は出発物質の違いのみならず,各生成条件(温度.濃度・反応時間)と密接に関係することを明らかにした。斜プチロルふっ石岩を出発物質としてNa2CO3溶液下(1M,0.25M)で方ふっ石が生成される場合,一般に低温条件のもとではSiO2含有比の高い方ふっ石か形成され,逆に高温条件のもとではSiO2含有比の低い方ふっ石か形成される.また,Na2CO3溶液の濃度か高い場合には低シリカ,低濃度の場合には高シリカ方ふっ石か形成する。さらに方ふっ石の組成は反応時間にも影響される。以上より黒鉱鉱床周辺の方ふっ石一方解石帯の成因解明の有力な手かかりが得られる。(150°C以上);写図6表5参22
引用文献 (22件):

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