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J-GLOBAL ID：201602202834966335   整理番号：16A0371240

TMS vapourおよびTEOS vapourの電子衝突断面積

Electron collision cross sections of TMS and TEOS vapours

著者 (4件)： 川口悟 (室蘭工大) ,  佐藤孝紀 (室蘭工大) ,  高橋一弘 (室蘭工大) ,  伊藤秀範 (室蘭工大)
資料名： 電気学会放電研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： ED-16  号： 20-27  ページ： 29-34  発行年： 2016年03月11日 
JST資料番号： Z0911A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 電子衝突 ,  *断面積 ,  *蒸気 ,  プラズマCVD ,  薄膜成長 ,  輸送係数 ,  Boltzmann方程式 ,  *シミュレーション ,  定数 ,  電子スウォーム ,  脂肪族アルコール ,  無機酸エステル ,  *電子衝突断面積 ,  電子輸送係数 ,  *モンテカルロシミュレーション ,  速度定数

分類 (1件)： プラズマ一般  (BJ02010B)

物質索引 (2件)： テトラメチルシラン ,  テトラエトキシシラン

タイトルに関連する用語 (3件)： TMS ,  TEOS ,  電子衝突断面積