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J-GLOBAL ID：201602216520487310   整理番号：16A0090488

金属酸化物薄膜堆積のための触媒反応生成高エネルギーH₂Oビーム

High-energy H₂O beam produced by a Pt-catalyzed H₂-O₂ reaction for the metal oxide film deposition

著者 (6件)： 寺口祐介 (長岡技科大) ,  田島諒一 (長岡技科大) ,  中村友紀 (長岡技科大) ,  高橋一匡 (長岡技科大) ,  玉山泰宏 (長岡技科大) ,  安井寛治 (長岡技科大)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 115  号： 297(CPM2015 83-102)  ページ： 75-79  発行年： 2015年10月30日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 白金ナノ粒子表面での水素と酸素の燃焼反応を利用して高エネルギーH₂Oを生成しラバールノズルによりビーム状に噴出,気相中でアルキル亜鉛ガスと反応させ高エネルギーZnOプリカーサを生成後,金属酸化物薄膜を作製するCVD装置のノズル構造について検討した。圧縮性流れの理論に基づきラバールノズルの末広開口角50°,60°,90°についてH₂Oビームのエネルギー状態を計算したところ,すべての開口角でノズル出口でのマッハ数は5を超え極超音速流が作られていることがわかった。またスケーリングパラメータを算出しそれをもとに平均クラスターサイズを求めたところクラスターサイズは1以下であり本CVD法においてH₂Oビーム中にクラスターは殆ど形成されていないと推察された。さらに末広開口角50°,60°,90°のラバールノズルを用いて堆積したZnO膜についてX線回折測定とHall効果測定により結晶配向性と電気的特性を調べた。(著者抄録)

シソーラス用語： *酸化亜鉛 ,  触媒反応 ,  Lavalノズル ,  クラスタ ,  X線回折 ,  Hall効果 ,  化学蒸着 ,  *薄膜成長 ,  *ZnOフィルム
準シソーラス用語： *ZnO薄膜 ,  CVD【化学蒸着】

分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (6件)： 金属酸化物薄膜 ,  堆積 ,  触媒反応 ,  エネルギー ,  H2O ,  ビーム