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J-GLOBAL ID：201602242781834570   整理番号：16A1108199

新しい高出力HVM LPP-EUV光源の性能

PERFORMANCE OF NEW HIGH POWER HVM LPP-EUV SOURCE

著者 (15件)： MIZOGUCHI Hakaru (Gigaphoton Inc., Kanagawa, JPN) ,  NAKARAI Hiroaki (Gigaphoton Inc., Kanagawa, JPN) ,  ABE Tamotsu (Gigaphoton Inc., Kanagawa, JPN) ,  NOWAK Krzysztof M (Gigaphoton Inc., Kanagawa, JPN) ,  KAWASUJI Yasufumi (Gigaphoton Inc., Kanagawa, JPN) ,  TANAKA Hiroshi (Gigaphoton Inc., Kanagawa, JPN) ,  WATANABE Yukio (Gigaphoton Inc., Kanagawa, JPN) ,  HORI Tsukasa (Gigaphoton Inc., Kanagawa, JPN) ,  KODAMA Takeshi (Gigaphoton Inc., Kanagawa, JPN) ,  SHIRAISHI Yutaka (Gigaphoton Inc., Kanagawa, JPN) ,  YANAGIDA Tatsuya (Gigaphoton Inc., Kanagawa, JPN) ,  YAMADA Tsuyoshi (Gigaphoton Inc., Kanagawa, JPN) ,  YAMAZAKI Taku (Gigaphoton Inc., Kanagawa, JPN) ,  OKAZAKI Shinji (Gigaphoton Inc., Kanagawa, JPN) ,  SAITOU Takashi (Gigaphoton Inc., Kanagawa, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 9776  ページ： 97760J.1-97760J.8  発行年： 2016年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 次世代半導体プロセスではEUVリソグラフィ法が検討されている。EUVリソグラフィを大量生産(HVM)に利用するためには,EUV光源の開発が重要となる。EUV光源の出力を高めるために,レーザプラズマ(LPP)の利用について検討した。パルスCO₂レーザとSn液滴を組み合わせて,LPP-EUV光源を開発した。波長13.5nmでの出力特性を示した。二波長レーザパルスと磁場を利用することで高出力化を実現した。理論と実験のデータを解析し,LPP-EUV光源性能を明確化した。108WのEUVパワー,80kHzの繰り返しにおいて,24時間の安定動作を実証した。これらの実験データに基づいて,実用的なEUV光源を開発している,ターゲットは,27kWのパルスCO₂レーザーシステムにより,250WのEUVパワーを得ることである。

シソーラス用語： *光源 ,  極端紫外線 ,  真空紫外線 ,  超高真空 ,  バースト ,  レーザシステム ,  レーザパルス ,  組合せ ,  大量生産 ,  *フォトリソグラフィー ,  炭酸ガスレーザ ,  スズ ,  *レーザプラズマ ,  液滴 ,  磁場効果
準シソーラス用語： *EUVリソグラフィー ,  *EUV光源

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (2件)： 高出力 ,  EUV光源