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J-GLOBAL ID：201602256920099613   整理番号：16A1194557

ケイ素の熱酸化成長過程研究のための電荷輸送原子間ポテンシャル

Charge-transfer interatomic potential for investigation of the thermal-oxidation growth process of silicon

著者 (7件)： Takamoto So (Department of Mechanical Engineering, The University of Tokyo, 7-3-1 Hongo, Bunkyo-ku, Tokyo 113-8656, Japan) ,  Kumagai Tomohisa (Materials Science Research Laboratory, Central Research Institute of Electric Power Industry, 2-6-1 Nagasaka, Yokosuka, Kanagawa 240-0196, Japan) ,  Yamasaki Takahiro (International Center for Materials Nanoarchitectonics, National Institute for Materials Science, 1-1 Namiki, Tsukuba, Ibaraki 305-0044, Japan) ,  Ohno Takahisa (International Center for Materials Nanoarchitectonics, National Institute for Materials Science, 1-1 Namiki, Tsukuba, Ibaraki 305-0044, Japan) ,  Kaneta Chioko (Fujitsu Laboratories Ltd., 10-1 Morinosato Wakamiya, Atsugi, Kanagawa 243-0197, Japan) ,  Hatano Asuka (Department of Mechanical Engineering, The University of Tokyo, 7-3-1 Hongo, Bunkyo-ku, Tokyo 113-8656, Japan) ,  Izumi Satoshi (Department of Mechanical Engineering, The University of Tokyo, 7-3-1 Hongo, Bunkyo-ku, Tokyo 113-8656, Japan)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 120  号： 16  ページ： 165109-165109-10  発行年： 2016年10月28日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *ケイ素 ,  *熱酸化 ,  *原子間ポテンシャル ,  電気伝導 ,  ab initio法 ,  二酸化ケイ素 ,  界面 ,  結晶構造 ,  密度分布
準シソーラス用語： 電荷輸送

分類 (1件)： 原子間相互作用  (BH04020U)

タイトルに関連する用語 (6件)： ケイ素 ,  熱酸化 ,  成長過程 ,  研究 ,  電荷輸送 ,  原子間ポテンシャル