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J-GLOBAL ID:201602258229319889   整理番号:16A1402437

国際宇宙ステーション搭載の液相線移動法によるSi0.5Ge0.5結晶成長時の温度勾配効果

Effects of temperature gradient in the growth of Si0.5Ge0.5 crystals by the traveling liquidus-zone method on board the International Space Station
著者 (6件):
資料名:
巻: 455  ページ: 49-54  発行年: 2016年12月01日 
JST資料番号: B0942A  ISSN: 0022-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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Si0.5Ge0.5結晶を,国際宇宙ステーション搭載の融帯移動(TLZ)法を用いて,2つの異なる温度勾配で育成した。そして,結晶品質に及ぼす温度勾配の効果を調査した。軸方向の平均的Ge濃度分布は温度勾配に影響を受けなかったが,結晶品質は大きく影響を受けた。単結晶の長さは短く,組成的過冷却(CS)は高い温度勾配ほど容易に発生することが明らかになった。融液中の溶質濃度分布と相図データに基づいたCS度合いの計算値は,温度勾配が2倍になると,約4倍大きくなり,これは実験結果を裏付けた。高い温度勾配での不安定性は,TLZ法に特有なものであり,他の結晶成長法,例えば,方向性凝固法とCzochralski法に共通しているものではなかった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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半導体の結晶成長 
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