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J-GLOBAL ID：201602265065852248   整理番号：16A0620145

Ag(111)上で成長する「多層シリセン」の原子構造 動力学的低エネルギー電子回折解析

Atomic structure of “multilayer silicene“ grown on Ag(111): Dynamical low energy electron diffraction analysis

著者 (10件)： KAWAHARA Kazuaki (Univ. Tokyo, Chiba, JPN) ,  KAWAHARA Kazuaki (Japan Soc. for the Promotion of Sci., Tokyo, JPN) ,  SHIRASAWA Tetsuroh (Univ. Tokyo, Chiba, JPN) ,  LIN Chun-Liang (Univ. Tokyo, Chiba, JPN) ,  NAGAO Ryo (Univ. Tokyo, Chiba, JPN) ,  TSUKAHARA Noriyuki (Univ. Tokyo, Chiba, JPN) ,  TAKAHASHI Toshio (Univ. Tokyo, Chiba, JPN) ,  ARAFUNE Ryuichi (National Inst. for Materials Sci., Ibaraki, JPN) ,  KAWAI Maki (Univ. Tokyo, Chiba, JPN) ,  TAKAGI Noriaki (Univ. Tokyo, Chiba, JPN)
資料名： Surface Science  (Surface Science)
巻： 651  ページ： 70-75  発行年： 2016年09月 
JST資料番号： C0129B  ISSN： 0039-6028  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： 銀 ,  結晶面 ,  *多層 ,  *ケイ素 ,  原子構造 ,  動力学 ,  *低速電子回折 ,  気固界面
準シソーラス用語： シリセン ,  低エネルギー電子回折

分類 (2件)： 電子回折法  (BK01030T) ,  無機化合物一般及び元素  (CD01010D)

タイトルに関連する用語 (8件)： Ag ,  成長 ,  多層 ,  シリセン ,  原子構造 ,  動力学 ,  低エネルギー電子回折 ,  解析