特許
J-GLOBAL ID：201603000033885548

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

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安江 崇裕

安江 崇裕 について

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向井 優一

向井 優一 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-071500
公開番号（公開出願番号）：特開2012-226327
特許番号：特許第6022788号
出願日： 2012年03月27日
公開日（公表日）： 2012年11月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (A)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、 (B)式(II)で表される酸発生剤、 (D)式(I)で表される化合物及び(E)溶剤を含有するレジスト組成物。 [式(I)中、 R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素数1〜12の炭化水素基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜7のアシル基、炭素数2〜7のアシルオキシ基、炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子を表す。 m及びnは、それぞれ独立に、0〜4の整数を表す。] [式(II)中、 R3及びR4は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。 X1は、2価の炭素数1〜17の飽和炭化水素基を表し、前記2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、前記2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。 R5は、3員又は4員の環状エーテル構造を含む基を表す。 Z1+は、有機カチオンを表す。]
IPC (2件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  G03F 7/039 ( 200 6.01)
FI (3件)：
G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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