特許
J-GLOBAL ID：201603000498395016
沈澱シリカ製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
園田 吉隆
, 小林 義教
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-547985
特許番号：特許第5868520号
出願日： 2012年12月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 シリケートと少なくとも1つの酸との反応を含み、それによってシリカの懸濁液が得られた後、この懸濁液の分離および乾燥が続くタイプの、シリカの製造方法であって、前記シリケートと前記酸との反応が、以下の一連の工程:
(i)2〜5のpHの水性ストックが形成される工程、
(ii)シリケートおよび酸が、反応媒体の前記pHが2〜5に維持されるように、前記ストックに同時に添加される工程、
(iii)前記酸の添加が、7〜10の前記反応媒体でのpH値が得られるまで前記反応媒体へのシリケートの添加を続行しながら停止される工程、
(iv)シリケートおよび酸が、前記反応媒体のpHが7〜10に維持されるように、前記反応媒体に同時に添加される工程、
(v)前記シリケートの添加が、6未満の前記反応媒体のpH値が得られるまで前記反応媒体への前記酸の添加を続行しながら停止される工程に従って行われ、
この方法において、工程(ii)の少なくとも一部で、使用される酸が、少なくとも80質量%の濃度の硫酸、少なくとも90質量%の濃度の酢酸もしくはギ酸、少なくとも60質量%の濃度の硝酸、少なくとも75質量%の濃度のリン酸、または少なくとも30質量%の濃度の塩酸によって形成される群から選択される、濃酸である方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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