特許
J-GLOBAL ID：201603001204876557

露光方法、露光装置およびデバイス製造方法

発明者：
松原 康晴

松原 康晴 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-118131
公開番号（公開出願番号）：特開2015-231035
出願日： 2014年06月06日
公開日（公表日）： 2015年12月21日
要約：
【課題】 スループットを低下させずにレチクルステージの走査駆動に伴うレチクルのずれを補正する。【解決手段】 レチクルと基板とを走査しながら前記基板に露光を行う露光方法は、前記レチクルを保持するレチクルステージにその走査駆動範囲を往復させる走査駆動を複数回行い、該複数回の走査駆動のそれぞれによって発生した前記レチクルの前記レチクルステージに対する位置ずれ量を測定し、該測定された位置ずれ量を前記レチクルステージの走査駆動回数と関連付けた情報を生成する生成工程と、前記露光を行うときのレチクルの位置ずれ量を、前記走査駆動回数と前記情報とに基づいて推定する推定工程と、 前記推定された位置ずれ量を低減するように、前記レチクルステージおよび前記基板を保持する基板ステージの少なくともいずれかの走査駆動を補正しながら前記露光を行う露光工程と、を含む。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
レチクルと基板とを走査しながら前記基板に露光を行う露光方法であって、 前記レチクルを保持するレチクルステージにその走査駆動範囲を往復させる走査駆動を複数回行い、該複数回の走査駆動のそれぞれによって発生した前記レチクルの前記レチクルステージに対する位置ずれ量を測定し、該測定された位置ずれ量を前記レチクルステージの走査駆動回数と関連付けた情報を生成する生成工程と、 前記露光を行うときのレチクルの位置ずれ量を、前記走査駆動回数と前記情報とに基づいて推定する推定工程と、 前記推定された位置ずれ量を低減するように、前記レチクルステージおよび前記基板を保持する基板ステージの少なくともいずれかの走査駆動を補正しながら前記露光を行う露光工程と、 を含むことを特徴とする露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/677
FI (5件)：
H01L21/30 525X ,  H01L21/30 525W ,  H01L21/30 525C ,  G03F7/20 501 ,  H01L21/68 A
Fターム (36件)：
2H097BA10 ,  2H097BB10 ,  2H097KA03 ,  2H097KA12 ,  2H097KA20 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  5F131AA02 ,  5F131BA13 ,  5F131CA18 ,  5F131CA32 ,  5F131DA09 ,  5F131DA33 ,  5F131DA42 ,  5F131DD43 ,  5F131DD53 ,  5F131DD76 ,  5F131EA02 ,  5F131EA06 ,  5F131EA22 ,  5F131EA23 ,  5F131EA24 ,  5F131EA25 ,  5F131FA17 ,  5F131KA16 ,  5F131KA44 ,  5F131KA47 ,  5F131KA72 ,  5F131KB12 ,  5F131KB32 ,  5F131KB53 ,  5F131KB58 ,  5F146EB02 ,  5F146EC01 ,  5F146FC04 ,  5F146FC05
引用特許：
審査官引用 (3件)

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