特許
J-GLOBAL ID:201603001294348112

水素ガス製造方法及び水素ガス製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 天野 一規 ,  池田 義典 ,  小川 博生 ,  石田 耕治 ,  各務 幸樹 ,  藤中 賢一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-207483
公開番号(公開出願番号):特開2016-084272
出願日: 2015年10月21日
公開日(公表日): 2016年05月19日
要約:
【課題】改質器の熱源として利用するオフガスの燃焼効率を向上させることや、オフガスを原料ガスの一部としてリサイクル利用させることで、製品水素ガスに対する燃料ガスや原料ガスの供給量を低減できる水素ガス製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、炭化水素含有ガスの水蒸気改質、部分酸化改質又はオートサーマル改質により水素リッチな改質ガスを生成する改質器と、この改質ガス中の水素以外のガスを除去する水素PSA装置とを用い、高純度水素ガスを製造する水素ガス製造方法であって、水素PSA装置より排出されるオフガスからオフガス用吸着塔を用い、二酸化炭素を除去する工程と、上記二酸化炭素除去工程で二酸化炭素を除去したオフガスを熱源又は原料ガスとして利用する工程とを備えることを特徴とする。【選択図】図3
請求項(抜粋):
炭化水素含有ガスの水蒸気改質、部分酸化改質又はオートサーマル改質により水素リッチな改質ガスを生成する改質器と、この改質ガス中の水素以外のガスを除去する水素PSA装置とを用い、高純度水素ガスを製造する水素ガス製造方法であって、 水素PSA装置より排出されるオフガスからオフガス用吸着塔を用い、二酸化炭素を除去する工程と、 上記二酸化炭素除去工程で二酸化炭素を除去したオフガスを熱源又は原料ガスとして利用する工程とを備えることを特徴とする水素ガス製造方法。
IPC (8件):
C01B 3/38 ,  C01B 3/56 ,  B01D 53/047 ,  B01D 53/053 ,  B01J 20/02 ,  B01J 20/18 ,  B01J 20/20 ,  B01J 20/34
FI (9件):
C01B3/38 ,  C01B3/56 Z ,  B01D53/047 ,  B01D53/053 ,  B01J20/02 A ,  B01J20/18 D ,  B01J20/20 B ,  B01J20/34 E ,  B01J20/34 A
Fターム (36件):
4D012BA01 ,  4D012BA02 ,  4D012BA03 ,  4D012BA04 ,  4D012CA01 ,  4D012CA03 ,  4D012CA07 ,  4D012CB16 ,  4D012CD07 ,  4D012CG01 ,  4D012CH03 ,  4D012CJ01 ,  4D012CJ03 ,  4D012CJ04 ,  4G066AA05B ,  4G066AA20C ,  4G066AA22C ,  4G066AA32B ,  4G066AA62B ,  4G066AC14C ,  4G066BA22 ,  4G066CA35 ,  4G066DA04 ,  4G066GA14 ,  4G140EA03 ,  4G140EA06 ,  4G140EA07 ,  4G140EB03 ,  4G140EB12 ,  4G140EB37 ,  4G140EB45 ,  4G140FA02 ,  4G140FB04 ,  4G140FC03 ,  4G140FD07 ,  4G140FE01
引用特許:
審査官引用 (4件)
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