特許
J-GLOBAL ID：201603001736129989
化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人深見特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-195015
公開番号（公開出願番号）：特開2013-082893
特許番号：特許第6002509号
出願日： 2012年09月05日
公開日（公表日）： 2013年05月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 式(I)で表される化合物。
[式(I)中、
QI1及びQI2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
nは、0又は1を表す。
X1は、単結合又は炭素数1〜10のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよいが、nが0のとき、X1は単結合ではない。
Wは、式(Ia1-1)、式(Ia1-2)又は、式(Ia1-4)で表される構造を表す。
*1は、-O-(CO)n-との結合手を表す。
*2は、-O-CO-との結合手を表す。
R1は、水素原子又はメチル基を表す。
Z1+は、有機対イオンを表す。]
IPC (6件)：
C08F 20/10 ( 200 6.01)
, C07C 309/17 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, G03F 7/004 ( 200 6.01)
, C07C 381/12 ( 200 6.01)
, C07C 303/22 ( 200 6.01)
C08F 20/10
, C07C 309/17 CSP
, G03F 7/039 601
, G03F 7/004 503 A
, C07C 381/12
, C07C 303/22
