レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：好宮幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-186298
公開番号（公開出願番号）：特開2011-039266
出願日： 2009年08月11日
公開日（公表日）： 2011年02月24日
要約：

【課題】高解像度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好でラインエッジラフネスが小さいレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。【解決手段】少なくとも、下記一般式(1)で示される、酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位a、スルホニウム塩を有する繰り返し単位b1及びb2のいずれか1つ以上、アミノ基を有する繰り返し単位cを有する高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。【化1】【選択図】なし

請求項（抜粋）：

少なくとも、下記一般式(1)で示される、酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位a、スルホニウム塩を有する繰り返し単位b1及びb2のいずれか1つ以上、アミノ基を有する繰り返し単位cを有する高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。

IPC (4件)：

G03F 7/039 , G03F 7/004 , C08F 220/38 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 503A , G03F7/004 501 , C08F220/38 , H01L21/30 502R

Fターム (84件)：

2H125AF17P , 2H125AF33P , 2H125AF34P , 2H125AH13 , 2H125AH16 , 2H125AH19 , 2H125AH22 , 2H125AH23 , 2H125AH24 , 2H125AH29 , 2H125AJ02Y , 2H125AJ14X , 2H125AJ14Y , 2H125AJ32Y , 2H125AJ42Y , 2H125AJ48Y , 2H125AJ64X , 2H125AJ64Y , 2H125AJ65X , 2H125AJ65Y , 2H125AJ69X , 2H125AJ82Y , 2H125AJ92Y , 2H125AN31P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN62P , 2H125AN86P , 2H125AN88P , 2H125BA01P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CB16 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 4J100AB07P , 4J100AB07Q , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100AL08T , 4J100AQ19T , 4J100AQ26S , 4J100AR36S , 4J100AR39S , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA03R , 4J100BA11P , 4J100BA11S , 4J100BA20Q , 4J100BA31S , 4J100BA31T , 4J100BA40S , 4J100BA56R , 4J100BA56S , 4J100BB07S , 4J100BB10R , 4J100BB10S , 4J100BB12R , 4J100BB12S , 4J100BC07Q , 4J100BC09R , 4J100BC43R , 4J100BC43S , 4J100BC48Q , 4J100BC48R , 4J100BC49R , 4J100BC53P , 4J100BC65S , 4J100BC65T , 4J100BC73T , 4J100BC79T , 4J100CA03 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (3件)

レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-271429 出願人：信越化学工業株式会社
感放射線性樹脂組成物、それに用いる重合体およびそれに用いる化合物
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-191426 出願人：JSR株式会社
重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-318381 出願人：三菱レイヨン株式会社

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