特許

J-GLOBAL ID：201603001748610860

フォトリソグラフィのための組成物および方法

発明者： ダヤン・ワン ,  チュンイ・ウー
出願人/特許権者： ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー
代理人 (1件)： 特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-091469
公開番号（公開出願番号）：特開2012-237979
特許番号：特許第6034588号
出願日： 2012年04月13日
公開日（公表日）： 2012年12月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 フォトレジストの層上のトップコート層の形成に使用するのに適した組成物であって、 前記組成物が、 水性アルカリ可溶性であるマトリックスポリマーと、 水性アルカリ可溶性であって、かつ下記一般式(I): (式中、R1は水素、またはC1〜C6アルキルもしくはフルオロアルキル基であり;R2はC3〜C8分岐アルキレン基であり;並びに、R3はC1〜C4フルオロアルキル基である) のモノマーの重合単位を含む第1の追加のポリマーとを含み、 前記第1の追加のポリマーがマトリックスポリマーよりも少ない量で組成物中に存在し、 前記第1の追加のポリマーがマトリックスポリマーの表面エネルギーよりも低い表面エネルギーを有し、 乾燥状態でのトップコート組成物の層が75〜85°の水後退接触角を有する、 組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/11 ( 200 6.01) ,  C08F 20/38 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G03F 7/11 501 ,  C08F 20/38 ,  H01L 21/30 575

引用特許：

出願人引用 (4件)

• フォトリソグラフィーのための組成物および方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-000154   出願人：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
• フォトリソグラフィーのための組成物および方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-000254   出願人：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
• スルホンアミド含有トップコートおよびフォトレジスト添加組成物並びにそれらの使用方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2012-553256   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション, セントラル硝子株式会社
• フォトレジスト組成物およびフォトレジストをパターニングする方法(スルホンアミド含有フォトレジスト組成物およびその使用方法)
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2012-553257   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション, セントラル硝子株式会社

審査官引用 (4件)

• フォトリソグラフィーのための組成物および方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-000154   出願人：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
• フォトリソグラフィーのための組成物および方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-000254   出願人：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
• スルホンアミド含有トップコートおよびフォトレジスト添加組成物並びにそれらの使用方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2012-553256   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション, セントラル硝子株式会社
• フォトレジスト組成物およびフォトレジストをパターニングする方法(スルホンアミド含有フォトレジスト組成物およびその使用方法)
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2012-553257   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション, セントラル硝子株式会社

引用文献：

出願人引用 (1件)

• High Contact Angle Fluorosulfonamide-based Materials for Immersion Lithography

審査官引用 (1件)

• High Contact Angle Fluorosulfonamide-based Materials for Immersion Lithography