特許
J-GLOBAL ID：201303023319721035

スルホンアミド含有トップコートおよびフォトレジスト添加組成物並びにそれらの使用方法

発明者：
サンダース、ダニエル、ポール

サンダース、ダニエル、ポール について

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藤原 昌生

藤原 昌生 について

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照井 貴陽

照井 貴陽 について


出願人/特許権者：
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション について

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セントラル硝子株式会社

セントラル硝子株式会社 について


代理人 (3件)： 上野 剛史 ,  太佐 種一 ,  市位 嘉宏
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-553256
公開番号（公開出願番号）：特表2013-519765
出願日： 2011年02月03日
公開日（公表日）： 2013年05月30日
要約：
【課題】 水液浸リソグラフィに適した、既知のものに比べ静止後退水接触角が向上したトップコートまたはフォトレジスト組成物、およびそれらの使用方法を提供する。【解決手段】 リソグラフィ・プロセスにおいて用いるための、当技術分野において既知のものに比べ静止後退水接触角が向上したスルホンアミド含有組成物、トップコート・ポリマー、および添加ポリマーを提供する。本発明のスルホンアミド含有トップコート・ポリマーおよび添加ポリマーは、式(I)に示すような分岐連結基を有するスルホンアミド置換反復単位を含む。【化1】【選択図】図5
請求項（抜粋）：
式(1)に示されたスルホンアミド基および分岐連結基を含む反復単位を含む組成物であって、
IPC (5件)：
C08F 20/38 ,  G03F 7/11 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
C08F20/38 ,  G03F7/11 501 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  H01L21/30 575
Fターム (47件)：
2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH25 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AM22N ,  2H125AM22P ,  2H125AM23N ,  2H125AM23P ,  2H125AM27N ,  2H125AM27P ,  2H125AM91N ,  2H125AM91P ,  2H125AM94N ,  2H125AM94P ,  2H125AM99N ,  2H125AM99P ,  2H125AN11N ,  2H125AN39P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03Q ,  4J100BA59P ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BB18R ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38 ,  5F146PA07 ,  5F146PA19
引用特許：
審査官引用 (9件)
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