特許
J-GLOBAL ID：201603002521433063

インプリント用モールド、インプリント方法、ワイヤーグリッド偏光子の製造方法及びワイヤーグリッド偏光子

発明者：
飯 村 慶 太

飯 村 慶 太 について

, 
大 川 泰 央

大 川 泰 央 について

, 
笹 本 和 雄

笹 本 和 雄 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (4件)： 勝沼 宏仁 ,  永井 浩之 ,  堀田 幸裕 ,  村田 卓久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-232110
公開番号（公開出願番号）：特開2016-096275
出願日： 2014年11月14日
公開日（公表日）： 2016年05月26日
要約：
【課題】インプリント用モールドのパターン領域に接触される被成形材料に、当該モールドの可撓性に起因した変形により欠陥領域が生じることを防止する。【解決手段】全体として可撓性を有するインプリント用モールド11は、第1パターン領域12を形成する第1パターン部22と、第2パターン領域13を形成する第2パターン部23と、を備える。第1パターン領域12及び第2パターン領域13の各々に凹凸形状32,33が形成され、第2パターン領域13の凹凸形状33は、ダミーパターンとして機能し、第1パターン部22の高さと、第2パターン部23の高さとが、互いに同一である。凹凸形状32,33は、ラインアンドスペースパターンにて形成されている。第2パターン領域13の凹凸形状33の凸部33Bは、ラインアンドスペースパターンにて形成されたサブ凹凸形状から構成されており、サブ凹凸形状331のピッチは、凹凸形状32のピッチと同一である。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
互いに隣接する第1パターン領域と第2パターン領域とが形成され、全体として可撓性を有するインプリント用モールドであって、 前記第1パターン領域を形成する第1パターン部と、前記第2パターン領域を形成する第2パターン部と、を備え、 前記第1パターン領域及び前記第2パターン領域の各々に凹凸形状が形成され、 前記第2パターン領域の凹凸形状は、ダミーパターンとして機能し、 前記第1パターン部の高さと、前記第2パターン部の高さとが、互いに同一であり、 前記第1パターン領域の凹凸形状及び前記第2パターン領域の凹凸形状の各々は、ラインアンドスペースパターンにて形成され、前記第1パターン領域の凹凸形状の凹部と凸部とが並ぶ方向と、前記第2パターン領域の凹凸形状の凹部と凸部とが並ぶ方向とが、互いに同一であり、 前記第2パターン領域の凹凸形状のピッチは、前記第1パターン領域の凹凸形状のピッチよりも大きくなっており、 前記第2パターン領域の凹凸形状の凸部は、ラインアンドスペースパターンにて形成されたサブ凹凸形状から構成されており、 前記サブ凹凸形状のピッチは、前記第1パターン領域の凹凸形状のピッチと同一である、 ことを特徴とするインプリント用モールド。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  B29C 59/02 ,  B29C 33/38 ,  G02B 5/30
FI (4件)：
H01L21/30 502D ,  B29C59/02 B ,  B29C33/38 ,  G02B5/30
Fターム (38件)：
2H149AA01 ,  2H149AB02 ,  2H149BA04 ,  2H149BA23 ,  2H149BB28 ,  2H149FD46 ,  4F202AA44 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH73 ,  4F202AJ03 ,  4F202AR07 ,  4F202AR12 ,  4F202AR20 ,  4F202CA19 ,  4F202CB02 ,  4F202CB29 ,  4F202CC07 ,  4F202CD05 ,  4F202CD23 ,  4F202CK12 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH73 ,  4F209AJ03 ,  4F209AR07 ,  4F209AR12 ,  4F209AR20 ,  4F209PA02 ,  4F209PA04 ,  4F209PB02 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F146AA31 ,  5F146AA32
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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