テンプレートパターンの設計方法、テンプレートの製造方法及び半導体装置の製造方法。

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (20件)：蔵田昌俊 , 河野哲 , 中村誠 , 福原淑弘 , 峰隆司 , 白根俊郎 , 村松貞男 , 野河信久 , 幸長保次郎 , 河野直樹 , 砂川克 , 風間鉄也 , 勝村紘 , 河井将次 , 佐藤立志 , 岡田貴志 , 堀内美保子 , 竹内将訓 , 市原卓三 , 山下元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-068961
公開番号（公開出願番号）：特開2010-225683
出願日： 2009年03月19日
公開日（公表日）： 2010年10月07日
要約：

【課題】欠陥の発生を防止することが可能なテンプレートパターンの設計方法を提供する。【解決手段】インプリントリソグラフィに用いるテンプレートパターンの設計方法であって、テンプレートの第1の領域と第2の領域との間の第3の領域に形成されるダミーテンプレートパターンのデータを、テンプレートの設計パターンのデータに基づいて生成する工程S15を備え、第3の領域の面積に対する第3の領域の表面積の割合を表す第3の表面積率が、第1の領域の面積に対する第1の領域の表面積の割合を表す第1の表面積率よりも小さく、且つ第2の領域の面積に対する第2の領域の表面積の割合を表す第2の表面積率よりも大きくなるように、ダミーテンプレートパターンのデータを生成する。【選択図】図11

請求項（抜粋）：

インプリントリソグラフィに用いるテンプレートパターンの設計方法であって、テンプレートの第1の領域と第2の領域との間の第3の領域に形成されるダミーテンプレートパターンのデータを、前記テンプレートの設計パターンのデータに基づいて生成する工程を備え、前記第3の領域の面積に対する第3の領域の表面積の割合を表す第3の表面積率が、前記第1の領域の面積に対する第1の領域の表面積の割合を表す第1の表面積率よりも小さく、且つ前記第2の領域の面積に対する第2の領域の表面積の割合を表す第2の表面積率よりも大きくなるように、前記ダミーテンプレートパターンのデータを生成することを特徴とするテンプレートパターンの設計方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , B29C 59/02

FI (2件)：

H01L21/30 502D , B29C59/02 B

Fターム (8件)：

4F209AA44 , 4F209AJ08 , 4F209AJ09 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PN09 , 4F209PQ11 , 5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (11件)

インプリント・リソグラフィ
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-114638 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ, コニンクリユケフィリップスエレクトロニクスエヌ.ブイ.
半導体デバイス製造におけるパターン転写方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-243369 出願人：株式会社石川製作所, 松村英樹
インプリント・リソグラフィ・システム
公報種別：公表公報出願番号：特願2009-504286 出願人：モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド

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