特許

J-GLOBAL ID：201003012901062840

テンプレートパターンの設計方法、テンプレートの製造方法及び半導体装置の製造方法。

発明者： 稲浪 良市 ,  米田 郁男 ,  徳江 寛
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (20件)： 蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  風間 鉄也 ,  勝村 紘 ,  河井 将次 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-068961
公開番号（公開出願番号）：特開2010-225683
出願日： 2009年03月19日
公開日（公表日）： 2010年10月07日
要約：

【課題】欠陥の発生を防止することが可能なテンプレートパターンの設計方法を提供する。【解決手段】インプリントリソグラフィに用いるテンプレートパターンの設計方法であって、テンプレートの第1の領域と第2の領域との間の第3の領域に形成されるダミーテンプレートパターンのデータを、テンプレートの設計パターンのデータに基づいて生成する工程S15を備え、第3の領域の面積に対する第3の領域の表面積の割合を表す第3の表面積率が、第1の領域の面積に対する第1の領域の表面積の割合を表す第1の表面積率よりも小さく、且つ第2の領域の面積に対する第2の領域の表面積の割合を表す第2の表面積率よりも大きくなるように、ダミーテンプレートパターンのデータを生成する。【選択図】図11

請求項（抜粋）：

インプリントリソグラフィに用いるテンプレートパターンの設計方法であって、 テンプレートの第1の領域と第2の領域との間の第3の領域に形成されるダミーテンプレートパターンのデータを、前記テンプレートの設計パターンのデータに基づいて生成する工程を備え、 前記第3の領域の面積に対する第3の領域の表面積の割合を表す第3の表面積率が、前記第1の領域の面積に対する第1の領域の表面積の割合を表す第1の表面積率よりも小さく、且つ前記第2の領域の面積に対する第2の領域の表面積の割合を表す第2の表面積率よりも大きくなるように、前記ダミーテンプレートパターンのデータを生成する ことを特徴とするテンプレートパターンの設計方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  B29C 59/02

FI (2件)：

H01L21/30 502D ,  B29C59/02 B

Fターム (8件)：

4F209AA44 ,  4F209AJ08 ,  4F209AJ09 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28