特許
J-GLOBAL ID:201603002655590092

EUVリソグラフィ用のミラーの基板

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 杉村 憲司 ,  下地 健一 ,  坪内 伸
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-549778
特許番号:特許第6023083号
出願日: 2012年01月14日
請求項(抜粋):
【請求項1】 ベース体を備えたEUVリソグラフィ用のミラーの基板であって、 前記ベース体は、アルミニウム-銅二元系の合金からなり、 前記合金が、対応の合金系の状態図において相安定線で囲まれた領域にある組成を有することを特徴とする基板。
IPC (1件):
G03F 7/20 ( 200 6.01)
FI (2件):
G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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