特許
J-GLOBAL ID：201603003547735528

シリカ除去システム及びそれを備える水処理システム

発明者：
二宮 隆

二宮 隆 について

, 
真鍋 敦行

真鍋 敦行 について

, 
中島 純一

中島 純一 について


出願人/特許権者：
三浦工業株式会社

三浦工業株式会社 について


代理人 (2件)： 岩池 満 ,  加藤 竜太
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-211141
公開番号（公開出願番号）：特開2014-064983
特許番号：特許第5998796号
出願日： 2012年09月25日
公開日（公表日）： 2014年04月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 シリカを含む被処理水に水溶性マグネシウム塩を添加する水溶性マグネシウム塩添加手段と、 前記水溶性マグネシウム塩添加手段により水溶性マグネシウム塩が添加された被処理水中においてアルカリ性条件下で析出したケイ酸マグネシウムを、濾過により除去する濾過手段と、 前記濾過手段を通過した濾過水を陽イオン交換樹脂によって軟水化処理する軟水化手段と、 を備えるシリカ除去システム。
IPC (4件)：
C02F 1/60 ( 200 6.01) ,  C02F 1/42 ( 200 6.01) ,  C02F 5/00 ( 200 6.01) ,  C02F 5/02 ( 200 6.01)
FI (5件)：
C02F 1/60 ,  C02F 1/42 E ,  C02F 5/00 620 C ,  C02F 5/02 B ,  C02F 5/00 610 E
引用特許：
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (2件)

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