特許
J-GLOBAL ID:200903033840904106

水処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 大塚 明博 ,  小林 保 ,  小島 猛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-097811
公開番号(公開出願番号):特開2005-279460
出願日: 2004年03月30日
公開日(公表日): 2005年10月13日
要約:
【課題】 被処理水を不純物の無い水に効率よく処理する水処理方法を提供する。【解決手段】 被処理水を軟水処理した後、逆浸透膜部4で濾過することにより、軟水処理により被処理水中のカルシウム等の硬度分を除し、カルシウム等の硬度分とシリカとの結合によるスケールの発生を防止し、これにより被処理水のシリカ溶解度を高くし、その分被処理水のシリカ濃度が高い状態でもシリカスケールの析出を抑制し、被処理水の高いシリカ濃度での水処理運転を可能とし、処理水の回収率の向上を図る。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
被処理水を軟水処理した後、逆浸透膜部で濾過するようにしたことを特徴とする水処理方法。
IPC (3件):
C02F1/44 ,  B01D61/02 ,  C02F5/00
FI (5件):
C02F1/44 H ,  B01D61/02 500 ,  C02F5/00 610C ,  C02F5/00 620B ,  C02F5/00 620C
Fターム (14件):
4D006GA03 ,  4D006KA02 ,  4D006KA41 ,  4D006KB11 ,  4D006KE11P ,  4D006KE16P ,  4D006KE22Q ,  4D006KE28Q ,  4D006MB02 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PB70 ,  4D006PC01 ,  4D006PC43
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 純水製造装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-057510   出願人:三浦工業株式会社
審査官引用 (19件)
  • 特開平4-250880
  • 特開平2-207888
  • 特開昭58-011090
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