特許

J-GLOBAL ID：201603003604891531

基板処理装置および基板処理方法

発明者： 徳利 憲太郎 ,  ▲高▼橋 弘明
出願人/特許権者： 株式会社SCREENホールディングス
代理人 (3件)： 松阪 正弘 ,  田中 勉 ,  井田 正道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-198208
公開番号（公開出願番号）：特開2016-072343
出願日： 2014年09月29日
公開日（公表日）： 2016年05月09日
要約：

【課題】基板上の薬液雰囲気を効率良く除去する。【解決手段】基板処理装置1では、制御部71により遮蔽板移動機構53、薬液供給部、洗浄液供給部および基板回転機構35が制御されることにより、トッププレート51が基板9に対して上下方向の第1相対位置に位置した状態で、基板9の上面91に薬液が供給されて薬液処理が行われる。また、トッププレート51が、基板9に対して第1相対位置よりも近接した第2相対位置に位置した状態で、基板9の上面91に洗浄液が供給されて洗浄処理が行われる。さらに、トッププレート51が、基板9に対して第2相対位置よりも近接した第3相対位置に位置した状態で基板9が回転して基板9の乾燥処理が行われる。これにより、洗浄処理の間に基板9上の薬液雰囲気を効率良く除去することができる。その結果、乾燥処理の際に、基板9上の薬液雰囲気に起因するパーティクルの発生を抑制することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板を処理する基板処理装置であって、 水平状態の基板を保持する基板保持部と、 上下方向を向く中心軸を中心として前記基板を前記基板保持部と共に回転する基板回転機構と、 前記基板の上面に薬液を供給する薬液供給部と、 前記基板の前記上面に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、 前記基板の前記上面に対向する遮蔽板と、 前記遮蔽板を前記基板に対して前記上下方向に相対的に移動する遮蔽板移動機構と、 前記遮蔽板移動機構、前記薬液供給部、前記洗浄液供給部および前記基板回転機構を制御することにより、前記遮蔽板が前記基板に対して前記上下方向の第1相対位置に位置した状態で前記基板の前記上面に前記薬液を供給して薬液処理を行い、前記遮蔽板が前記基板に対して前記第1相対位置よりも近接した第2相対位置に位置した状態で前記基板の前記上面に前記洗浄液を供給して洗浄処理を行い、前記遮蔽板が前記基板に対して前記第2相対位置よりも近接した第3相対位置に位置した状態で前記基板を回転して乾燥処理を行う制御部と、 を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

H01L21/304 648H ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 651B ,  H01L21/304 648J ,  H01L21/306 R ,  H01L21/30 572B

Fターム (34件)：

5F043DD13 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE09 ,  5F146MA05 ,  5F146MA07 ,  5F146MA10 ,  5F157AB02 ,  5F157AB14 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157AC02 ,  5F157AC03 ,  5F157AC26 ,  5F157BB23 ,  5F157BB42 ,  5F157BB52 ,  5F157BC01 ,  5F157BH21 ,  5F157CB03 ,  5F157CB13 ,  5F157CB15 ,  5F157CC11 ,  5F157CE02 ,  5F157CE10 ,  5F157CE23 ,  5F157CE25 ,  5F157CE61 ,  5F157CF16 ,  5F157CF22 ,  5F157DB02 ,  5F157DB51 ,  5F157DC90

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-061056   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-319889   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-084720   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理方法および基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-338589   出願人：大日本スクリーン製造株式会社