特許
J-GLOBAL ID：200903047054655241

基板処理装置

発明者：
梶野 一樹

梶野 一樹 について

, 
河村 隆

河村 隆 について

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朝来野 香

朝来野 香 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (3件)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-084720
公開番号（公開出願番号）：特開2004-296610
出願日： 2003年03月26日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：
【課題】遠心力により基板から除去された処理液が、基板に再付着することを防止する基板処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】基板処理装置1に、基板Wを回転保持するスピンベース10、基板Wの上面を外部雰囲気から遮断する雰囲気遮断板30、基板W等から振り切られた処理液を受け止めるスプラッシュガード50、およびスプラッシュガード50を昇降させるガード昇降機構59を設ける。基板Wを回転させつつ処理液による処理を行う場合には、ガード昇降機構59により、スプラッシュガード50の上面50aの高さ位置を、雰囲気遮断板30の上面30aの高さ位置以下となるように、スプラッシュガード50を配置し、雰囲気遮断板30の回転に伴って、雰囲気遮断板30の上方の雰囲気が回収流路54内に巻き込まれることを防止する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
回転基台上に保持された基板を水平面内にて回転させつつ所定の処理液による処理を行う基板処理装置であって、 前記回転基台上に設けられ、基板の周縁部を把持して当該基板を略水平姿勢にて保持する把持手段と、 前記把持手段によって保持された基板を略鉛直方向に沿った軸を中心として回転させる回転手段と、 前記把持手段よりも上方に配置され、前記把持手段によって保持された基板の上面に対向する雰囲気遮断板と、 前記把持手段によって保持された基板の周辺部から飛散する前記所定の処理液を受け止める飛散防止手段と、 を備え、 前記飛散防止手段が、 前記所定の処理液を導く回収流路を形成するための案内部材を有し、 前記回収流路の開口部の上下間隔が、前記回転基台と前記雰囲気遮断板との間隔以上とされており、かつ、前記開口部の近傍において前記回収流路を形成する案内部材の上面の高さ位置が、前記雰囲気遮断板の上面の高さ位置以下となるように配置されることを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L21/306 ,  B08B3/02 ,  H01L21/304
FI (3件)：
H01L21/306 R ,  B08B3/02 B ,  H01L21/304 643A
Fターム (16件)：
3B201AA01 ,  3B201AB08 ,  3B201AB33 ,  3B201AB47 ,  3B201BB22 ,  3B201BB72 ,  3B201BB92 ,  3B201CD22 ,  3B201CD33 ,  5F043DD13 ,  5F043DD30 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE33 ,  5F043FF10 ,  5F043GG10
引用特許：
審査官引用 (5件)
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