特許
J-GLOBAL ID:201603004025682714
パターンめっき用無電解めっき前処理インキ組成物及び無電解めっき皮膜の形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
特許業務法人三枝国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-061828
公開番号(公開出願番号):特開2016-194150
出願日: 2016年03月25日
公開日(公表日): 2016年11月17日
要約:
【課題】 本発明は、プラスチック上にパターンめっきを行う無電解めっきにおいて、無電解めっきの反応性が高く、クロムめっきまでの多層めっきに耐え得る優れた密着性と、装飾用めっきに耐え得る優れた平滑性とを発現できる無電解めっき前処理インキ組成物を提供することを目的とする。【解決手段】 (1)パラジウム粒子と分散剤との複合体、(2)溶媒、(3)バインダー及び(4)ナノ粒子を含有するパターンめっき用無電解めっき前処理インキ組成物。【選択図】なし
請求項(抜粋):
以下の(1)〜(4):
(1)パラジウム粒子と分散剤との複合体
(2)溶媒
(3)バインダー
(4)ナノ粒子
を含有するパターンめっき用無電解めっき前処理インキ組成物。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (36件):
4J039AE05
, 4J039BA06
, 4J039BE12
, 4J039BE22
, 4J039FA02
, 4K022AA02
, 4K022AA03
, 4K022AA04
, 4K022AA14
, 4K022AA15
, 4K022AA16
, 4K022AA19
, 4K022AA20
, 4K022AA22
, 4K022AA23
, 4K022AA24
, 4K022AA32
, 4K022AA34
, 4K022AA36
, 4K022BA01
, 4K022BA03
, 4K022BA04
, 4K022BA07
, 4K022BA08
, 4K022BA14
, 4K022BA16
, 4K022BA31
, 4K022BA32
, 4K022BA35
, 4K022CA06
, 4K022CA14
, 4K022CA21
, 4K022CA25
, 4K022DA01
, 4K022DB01
, 4K022DB26
引用特許:
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