特許
J-GLOBAL ID:201603005518217588

培地及び強光阻害抑制方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 秋山 敦 ,  城田 百合子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-063801
公開番号(公開出願番号):特開2016-182063
出願日: 2015年03月26日
公開日(公表日): 2016年10月20日
要約:
【課題】屋外の培養槽でのユーグレナ培養の増殖速度の低下を抑制し、ユーグレナの生産性を向上可能な培地及び強光阻害抑制方法を提供する。【解決手段】生体親和性部位と酸化還元活性部位を備えた細胞膜透過性電子メディエーターを含み、ユーグレナの電気化学培養に使用される、ユーグレナの強光阻害を抑制するための培地である。また、電極を備えた培養装置に供給されたこの培地で、ユーグレナを電気化学培養することを特徴とする強光阻害抑制方法である。【選択図】図3
請求項(抜粋):
生体親和性部位と酸化還元活性部位を備えた細胞膜透過性電子メディエーターを含み、ユーグレナの電気化学培養に使用される、ユーグレナの強光阻害を抑制するための培地。
IPC (3件):
C12N 1/00 ,  C08F 220/36 ,  C08F 230/04
FI (3件):
C12N1/00 G ,  C08F220/36 ,  C08F230/04
Fターム (13件):
4B065AA86X ,  4B065BB13 ,  4B065BC18 ,  4B065BC48 ,  4B065BC50 ,  4B065CA41 ,  4B065CA60 ,  4J100AL08P ,  4J100AP00Q ,  4J100AP21Q ,  4J100BA32P ,  4J100BA64P ,  4J100BA65P
引用特許:
審査官引用 (6件)
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引用文献:
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