レジスト下層膜形成組成物用添加剤及びそれを含むレジスト下層膜形成組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：萼経夫 , 宮崎嘉夫 , 加藤勉 , 伴知篤
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-539625
特許番号：特許第6015962号
出願日： 2012年10月12日
請求項（抜粋）：

【請求項1】下記式(1)で表される構造単位を有する重合体から成るレジスト下層膜形成組成物用添加剤。 (式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、Lは二価の連結基を表し、Xはtert-ブトキシカルボニル基で保護されたアミノ基を有するアシルオキシ基又はtert-ブトキシカルボニル基で保護された含窒素複素環を有するアシルオキシ基を表す。)

IPC (1件)：