特許
J-GLOBAL ID：201603006033090900

研磨方法およびポリシング用組成物

発明者：
▲高▼橋 修平

▲高▼橋 修平 について

, 
戸松 正利

戸松 正利 について


出願人/特許権者：
株式会社フジミインコーポレーテッド

株式会社フジミインコーポレーテッド について


代理人 (3件)： 安部 誠 ,  大井 道子 ,  谷 征史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-215119
公開番号（公開出願番号）：特開2016-093884
出願日： 2015年10月30日
公開日（公表日）： 2016年05月26日
要約：
【課題】高硬度材料に対して、平滑性と平坦性との両立を効率的に実現し得る研磨方法を提供する。【解決手段】1500Hv以上のビッカース硬度を有する材料を研磨する方法が提供される。この研磨方法は:砥粒APREを含む予備ポリシング用組成物を用いて予備ポリシングを行う工程と;砥粒APREよりも硬度が低い砥粒AFINを含む仕上げポリシング用組成物を用いて仕上げポリシングを行う工程と;を含む。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
1500Hv以上のビッカース硬度を有する材料を研磨する方法であって、 砥粒APREを含む予備ポリシング用組成物を用いて予備ポリシングを行う工程と; 砥粒APREよりも硬度が低い砥粒AFINを含む仕上げポリシング用組成物を用いて仕上げポリシングを行う工程と; を含む、研磨方法。
IPC (4件)：
B24B 37/00 ,  H01L 21/304 ,  C09K 3/14 ,  C09G 1/02
FI (6件)：
B24B37/00 K ,  B24B37/00 H ,  H01L21/304 622D ,  C09K3/14 550C ,  C09K3/14 550Z ,  C09G1/02
Fターム (35件)：
3C158AA07 ,  3C158CA01 ,  3C158CA04 ,  3C158CA05 ,  3C158CB01 ,  3C158CB10 ,  3C158DA02 ,  3C158DA17 ,  3C158EA01 ,  3C158EA11 ,  3C158EB01 ,  3C158ED05 ,  3C158ED08 ,  3C158ED10 ,  3C158ED11 ,  3C158ED12 ,  3C158ED23 ,  3C158ED26 ,  5F057AA03 ,  5F057BA11 ,  5F057BB09 ,  5F057BB12 ,  5F057BB40 ,  5F057CA11 ,  5F057CA19 ,  5F057DA03 ,  5F057EA01 ,  5F057EA06 ,  5F057EA07 ,  5F057EA08 ,  5F057EA09 ,  5F057EA17 ,  5F057EA21 ,  5F057EA29 ,  5F057EA32
引用特許：
出願人引用 (7件)
全件表示
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM