特許
J-GLOBAL ID：201603006641285977
マイクロデバイスの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人深見特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-069841
公開番号（公開出願番号）：特開2014-188669
特許番号：特許第5950858号
出願日： 2013年03月28日
公開日（公表日）： 2014年10月06日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板との間に隙間を介して配置された可動構造体を第1および第2の支持部の各々で前記基板に対して支持した支持構造を形成する工程と、
前記基板から前記可動構造体に向かう上下方向における前記第2の支持部の少なくとも一部において、前記第2の支持部の前記上下方向に直交する幅方向の全体が酸化するように酸化膜を形成する工程と、
前記酸化膜を除去することにより、前記第2の支持部が形成されていた箇所において前記基板から前記可動構造体を浮かせ、前記基板および前記可動構造体の少なくとも一方の前記第2の支持部が接続されていた箇所に凸部を形成し、かつ前記基板に対して前記可動構造体を前記第1の支持部で支持する工程とを備えた、マイクロデバイスの製造方法。
IPC (5件)：
B81C 1/00 ( 200 6.01)
, B81B 3/00 ( 200 6.01)
, G01P 15/125 ( 200 6.01)
, G01C 19/5712 ( 201 2.01)
, G02B 26/10 ( 200 6.01)
B81C 1/00
, B81B 3/00
, G01P 15/125 Z
, G01C 19/56 212
, G02B 26/10 104 Z
