特許
J-GLOBAL ID：201603006766223655

複合体及びその製造方法

発明者：
龍田 成人

龍田 成人 について

, 
矢野 一久

矢野 一久 について

, 
増田 貴史

増田 貴史 について

, 
下田 達也

下田 達也 について


出願人/特許権者：
株式会社豊田中央研究所

株式会社豊田中央研究所 について

, 
国立大学法人北陸先端科学技術大学院大学

国立大学法人北陸先端科学技術大学院大学 について


代理人 (1件)： 畠山 文夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-010348
公開番号（公開出願番号）：特開2016-132608
出願日： 2015年01月22日
公開日（公表日）： 2016年07月25日
要約：
【課題】細孔内に特異的にシリコンが存在しており、細孔外には実質的にシリコンが存在しない複合体及びその製造方法を提供すること。【解決手段】複合体は、多孔体と、前記多孔体の細孔内に導入されたシリコンとを備えている。前記シリコンは、前記細孔の内壁面を被覆する膜、及び/又は、前記細孔に内包された粒子からなる。このような複合体は、室温で液体であるケイ素化合物の蒸気、又は前記ケイ素化合物の液体若しくは溶液を多孔体の細孔内に導入し、前記ケイ素化合物の導入後又は導入と同時に、前記細孔内において前記ケイ素化合物をシリコンに変換することにより得られる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
多孔体と、 前記多孔体の細孔内に導入されたシリコンと を備えた複合体。
IPC (5件)：
C01B 33/02 ,  C01B 31/02 ,  C01B 37/00 ,  C01G 23/047 ,  C01F 7/02
FI (5件)：
C01B33/02 Z ,  C01B31/02 101B ,  C01B37/00 ,  C01G23/047 ,  C01F7/02 D
Fターム (51件)：
4G047CA01 ,  4G047CA02 ,  4G047CB08 ,  4G047CC03 ,  4G047CD04 ,  4G072AA01 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH28 ,  4G072RR11 ,  4G072RR12 ,  4G072RR30 ,  4G072UU30 ,  4G073BA63 ,  4G073BD15 ,  4G073BD23 ,  4G073CZ53 ,  4G073GA13 ,  4G073UB60 ,  4G076AA02 ,  4G076BF10 ,  4G076CA03 ,  4G076CA04 ,  4G076CA12 ,  4G076CA28 ,  4G076FA04 ,  4G146AA01 ,  4G146AA17 ,  4G146AB02 ,  4G146AC06A ,  4G146AC06B ,  4G146AD11 ,  4G146AD23 ,  4G146AD25 ,  4G146BA11 ,  4G146BB06 ,  4G146BC07 ,  4G146BC23 ,  4G146BC33B ,  4G146BC37B ,  4G146CA02 ,  4G146CB11 ,  4G146CB20 ,  4G146CB24 ,  4G146CB26 ,  4G146CB32 ,  5H050AA19 ,  5H050BA17 ,  5H050CB11 ,  5H050FA18 ,  5H050GA27
引用特許：
出願人引用 (8件)
全件表示
審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM