多孔質シリカ内包粒子の製造方法および多孔質シリカ、多孔質シリカ内包粒子

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)：筒井大和 , 小塚善高 , 筒井章子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-186879
公開番号（公開出願番号）：特開2013-063895
出願日： 2012年08月27日
公開日（公表日）： 2013年04月11日
要約：

【課題】良好な多孔質シリカ内包粒子の製造方法を提供する。【解決手段】(a)多孔質シリカを準備する工程と、(b)多孔質シリカと金属または前記金属を元素組成として有する化合物を含有する液とを接触させ、多孔質シリカの孔内に前記液を含浸させる工程と、(c)前記(b)工程の後、熱処理を施すことにより、前記多孔質シリカの孔内において前記金属または前記金属化合物を含有する微細粒子を形成する工程と、を有する。また、無溶媒系でアルコキシシランの加水分解することにより多孔質シリカを合成すれば、微細な孔径を有する多孔質シリカの合成が可能であり、この多孔質シリカを鋳型とすることで、バルクの状態では見られない特異な性質を示す粒子(例えば、W、Cu、Cr、Mn、Fe、CoまたはNiやこれらの金属酸化物)も容易に形成することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

(a)多孔質シリカを準備する工程と、 (b)前記多孔質シリカと金属または前記金属を元素組成として有する化合物を含有する液とを接触させ、前記多孔質シリカの孔内に前記液を含浸させる工程と、 (c)前記(b)工程の後、熱処理を施すことにより、前記多孔質シリカの孔内において前記金属または前記金属化合物を含有する微細粒子を形成する工程と、を有し、前記多孔質シリカの平均孔直径は、0.5以上1.5nm以下であることを特徴とする多孔質シリカ内包粒子の製造方法。

IPC (1件)：

C01B 33/18

FI (1件)：

C01B33/18 Z

Fターム (18件)：

4G072AA25 , 4G072AA38 , 4G072BB05 , 4G072BB15 , 4G072GG02 , 4G072GG03 , 4G072HH14 , 4G072HH30 , 4G072JJ02 , 4G072JJ09 , 4G072JJ11 , 4G072JJ26 , 4G072JJ30 , 4G072KK01 , 4G072LL06 , 4G072MM03 , 4G072MM23 , 4G072RR24

引用特許：

審査官引用 (9件)

酸化物複合体及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-049709 出願人：株式会社豊田中央研究所
磁性材料及び磁性材料の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-342701 出願人：株式会社豊田中央研究所
半導体光触媒含有球状シリカゲル体および製造方法並びに塗料組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-283680 出願人：旭硝子株式会社

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