特許
J-GLOBAL ID:201603007126596656

成膜装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 古部 次郎 ,  千田 武 ,  加藤 謹矢
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-285155
公開番号(公開出願番号):特開2014-127665
特許番号:特許第6009348号
出願日: 2012年12月27日
公開日(公表日): 2014年07月07日
請求項(抜粋):
【請求項1】 上方に設けられた天井と当該天井の下方に設けられた床部とによって囲われた内部空間を有し、当該床部側において膜の形成面が当該天井側を向くように基板を収容する収容室と、 前記内部空間に、前記基板の側方から当該基板に向かう第1方向に沿って、前記膜の原料となる原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、 前記内部空間に、前記天井から前記床部に向かう第2方向に沿って、前記原料ガスの当該天井側への移動を抑制するブロックガスを供給するブロックガス供給手段と、 前記内部空間に収容された前記基板を加熱する加熱手段と、 前記内部空間における上方側において、前記天井から前記第2方向に延び且つ前記第1方向を横切るように設けられ、当該内部空間における上方側を複数の領域に仕切る仕切部材とを含み、 前記第2方向に沿った前記仕切部材の長さが、当該仕切部材の下端から当該第2方向に沿って前記収容室の前記床部に至る距離以上に設定され、 前記収容室における前記第1方向の下流側には、前記内部空間からガスを排出するための排出口が、前記第2方向に高さを有して設けられるとともに、 前記仕切部材は、前記基板からみて当該第1方向の下流側且つ上方に配置される下流側仕切部材を備え、 前記下流側仕切部材における下端の位置が、前記排出口における上端の位置以下となるように設定されることを特徴とする成膜装置。
IPC (1件):
H01L 21/205 ( 200 6.01)
FI (1件):
H01L 21/205
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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