特許
J-GLOBAL ID：201603007297390207

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

, 
嶋田 雅彦

嶋田 雅彦 について

, 
西村 崇

西村 崇 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-084451
公開番号（公開出願番号）：特開2012-226340
特許番号：特許第5864341号
出願日： 2012年04月03日
公開日（公表日）： 2012年11月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (A)式(I)で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、 (B)酸発生剤及び (D)式(II)で表される化合物を含有するレジスト組成物。 [式(I)中、 環T1は置換基を有していてもよい炭素数3〜34のスルトン環を表す。 X1は、酸素原子又は-N(Rc)-(但し、Rcは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。)を表す。 Z1は、*-X2-、*-X2-X4-CO-X3-又は*-X2-CO-X4-X3-(但し、X2及びX3は、それぞれ独立に炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。X4は酸素原子又は-N(Rc)-を表す。Rcは前記と同義である。*はX1との結合手を表す。)で表される基を表す。 R1は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。] [式(II)中、 R2及びR3は、それぞれ独立に、炭素数1〜12の炭化水素基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜7のアシル基、炭素数2〜7のアシルオキシ基、炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子を表す。 m及びnは、それぞれ独立に、0〜4の整数を表し、mが2以上の場合、複数のR2は同一又は相異なり、nが2以上の場合、複数のR3は同一又は相異なる。]
IPC (3件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  C08F 20/38 ( 200 6.01)
FI (3件)：
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  C08F 20/38
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM