特許
J-GLOBAL ID:201603007522625847
スパッタリングターゲットおよびその製造方法
発明者:
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
特許業務法人ブライタス
, 千原 清誠
, 杉岡 幹二
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-541646
特許番号:特許第5969493号
出願日: 2012年04月10日
請求項(抜粋):
【請求項1】 質量%で、純度が99.99%以上であり、相対密度が98%以上で、かつ平均結晶粒径が2μm未満であるアルミナ焼結体を用いたことを特徴とするスパッタリングターゲット。
IPC (1件):
FI (1件):
引用特許:
出願人引用 (10件)
全件表示
審査官引用 (8件)
全件表示
前のページに戻る