基板ステージ

発明者： , , , , , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：大野聖二 , 小林英了 , 大谷寛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-043921
公開番号（公開出願番号）：特開2016-106274
出願日： 2016年03月07日
公開日（公表日）： 2016年06月16日
要約：

【課題】基板のエッジ領域を液浸露光する場合に良好に液浸領域を形成した状態で露光できる基板ステージを提供する。【解決手段】基板ステージは、被露光対象としての基板を保持して移動可能である。基板ステージは、第1周壁と、第1周壁の内側に形成された第2周壁と、第2周壁の内側に形成された支持部とを備え、第2周壁に囲まれた空間を負圧にすることによって、支持部に基板を保持する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することによって前記基板を露光する露光方法において、前記基板の側面が撥液処理されていることを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

G03F 7/20 , H01L 21/683

FI (2件)：

G03F7/20 501 , H01L21/68 N

引用特許：

出願人引用 (7件)

リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-417260 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
特許第4415939号
液浸型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-121757 出願人：株式会社ニコン

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審査官引用 (7件)

リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-417260 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
特許第4415939号
液浸型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-121757 出願人：株式会社ニコン

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